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三靶磁控溅射的技术原理
日期：2025-04-30 17:59
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摘要：
三靶磁控溅射技术是一种高能低温的表面涂装技术，它能在金属表面形成致密、均匀的薄膜。该技术的原理是加热金属靶材，使其表面产生电子溅射，同时在真空条件下，在靶材附近沉积工件表面。
磁控电子枪是三靶磁控溅射技术的核心，它能发射高能电子束，利用磁场将其聚焦在靶材表面。电子束会在靶材表面产生电子溅射，从而击出靶材表面的原子或分子。这些原子或分子以高速飞出，并沉积在工件表面形成薄膜。