产品名称：500W RF 500W DC三靶磁控溅射镀膜仪

500W RF 500W DC三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选购；所配电源为500W直流电源和500W射频电源，直流电源可用于金属薄膜的制备，射频电源可用于非金属膜的制备，三个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。若客户有其他镀膜需要，可以定制其他射频电源和脉冲电源，各型电源均有300W到1000W多种规格可选。

镀膜仪配有两路高精度质量流量计，客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路，以满足复杂的气体环境构建需求；仪器标配先进的涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制，可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品，大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制，在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能，可以进一步提高您的实验效率。

应用领域

该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。

名称	三靶磁控溅射镀膜仪(500W RF&500W DC)
特点	镀膜速率高，样品温升低，典型的高速低温溅射 触控屏控制，内置一键式镀膜程序，操作简单易上手
技术参数	供电电压： AC220V，50Hz 整机功率 ：4KW 载样台参数： 尺寸 φ140mm； 加热温度 *高500℃； 控温精度 ±1℃； 转速 1-20rpm可调 磁控溅射头：2” x3 （1”,2”可选）； 水冷（水冷机规格 10L/min流速的循环水冷机） 真空腔体 ：尺寸 φ300mm X 300mm H，不锈钢； 观察窗口 ：φ100mm； 开启方式： 上顶开式，便于更换靶材 质量流量计： 2路分别通Ar，N2； 量程均为0-100sccm（可根据客户需要定制多路气路） 真空系统 ：产品型号 CY-GZK103-A                   抽气接口 CF160，排气接口KF40 分子泵 CY-600 前极泵： 旋片泵                   真空测量：复合真空计 极限真空：1.0E-5Pa 供电电源 AC;220V 50/60Hz 抽气速率：分子泵：600L/S，旋片泵：1.1L/S  综合抽气性能：20分钟真空度可达： 1.0E-3Pa 溅射电源 ：直流电源500W 射频电源500W
规格	尺寸：600mm X 650mm X 1280mm；重量：300kg