0371-5536 5392 0371-5519 9322
-
桌面型不锈钢腔体双靶磁控溅... 双靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
-
桌面型电动升降样品台蒸发镀... 热蒸发镀膜仪适用于蒸发涂覆大多数金属和某些有机材料薄膜
-
旋转粉体磁控溅射包覆机 粉体磁控溅射包覆机是通过粉未在溅射腔室内的旋转，以达到粉未表面均匀包覆的效果。腔室可旋转、倾斜，能快速出料
-
高真空三靶磁控溅射镀膜仪自... 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛...
-
分体式高真空三靶磁控溅射镀... 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛...
-
桌面型单靶直流磁控溅射镀膜... 单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备
-
三靶直流磁控溅射镀膜仪 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜...
-
双靶磁控溅射镀膜仪 双靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛...