0371-5536 5392 0371-5519 9322
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PECVD等离子体增强化学... 化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术，能够利用高能量等离子体促进反应过程，有效提升反应速度，降低反应温度。适用...
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派瑞林真空气相沉积 派瑞林真空气相沉积（PECVD）是一种常用的薄膜沉积技术，用于在材料表面上制备薄膜。它是在真空环境中使用气相化学反应来沉...
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晶圆级大尺寸二硫化钼制备装... 晶圆级大尺寸二硫化钼制备装置包括三温区管式炉，特殊设计的炉管及配套气路一组，晶圆级大尺寸二硫化钼制备装置通过特殊设计的管...