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三温区三通道CVD混洗系统 TN-OTF-1200X-80-3F是一款CE认证的三温区管式炉CVD系统，其管径为80mm，采用机械泵，它是由管式炉，...
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等离子增强型CVD系统 TN-O1200-50IS-PECVD是一款等离子增强型CVD系统。此系统由150W射频电源、单温区管式炉、3通道质子流...
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四路质子混气管式pecvd... 等离子体增强型化学气相沉积（PECVD）技术是借助于辉光放电（等离子体）使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄...
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CVD系统 该套CVD系统主要由：材料加热、真空获取、气体测量和等离子发生器四大部分构成。可以满足日常的大多数CVD实验和各种科研要...
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PECVD石墨烯薄膜制备系... PECVD石墨烯薄膜制备系统借助13.56MHz的射频输出等使含有薄膜组成原子的气体电离，在真空腔体内形成等离子体，利用...
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三温区CVD气相沉积系统 该三温区CVD气相沉积系统主要用于真空烧结、气氛保护性烧结、真空镀膜 各种材料煅烧、需要温度梯度的各种CVD实验
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迷你石墨烯CVD实验室设备 迷你石墨烯CVD实验室设备采用1200℃迷你管式炉，功能齐全占地面积较小，迷你石墨烯CVD实验室设备专为石墨烯生产设计。