产品详情
  • 产品名称:四路质子混气管式pecvd系统

  • 产品型号:TN-O1200-60-4CLV-PE
  • 产品厂商:泰诺
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简单介绍:
等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)技术是借助于辉光放电(等离子体)使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜生长的一种制备技术。我公司综合了多项实验要求设计生产了四路质子混气管式pecvd系统,能广泛适应各类薄膜研究的需要比如:石墨烯制备、C纳米材料制备、氧化物制备。四路质子混气管式pecvd系统一款不可多得的薄膜制备器材
详情介绍:

○ 产品介绍

等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)技术是借助于辉光放电(等离子体)使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜生长的一种制备技术。我公司综合了多项实验要求设计生产了四路质子混气管式pecvd系统,能广泛适应各类薄膜研究的需要比如:石墨烯制备、C纳米材料制备、氧化物制备。是一款不可多得的薄膜制备器材


○ 适用范围

能广泛适应各类薄膜研究的需要比如:石墨烯制备、C纳米材料制备、氧化物制备。是一款不可多得的薄膜制备器材


○ 技术参数

产品特点

与普通的CVD系统相比,因为有等离子源的介入,系统的沉积温度相对较低。配备有滑轨式管式炉可以轻松实现快速降温,实现快速退火。操控界面可配备液晶操作系统,图文显示,直观易懂,对于设备的使用操作简单易学该系统较高工作温度接近1150℃,能满足大多数热处理场合。该设备可具体用于:碳、ZnO纳米管或纳米线的制备也可以用于制备单层石墨烯以及各种CVD实验。

等离子发生器

输出功率:5~500W±1%.射频频率:13.56 MHz±0.005%.反射功率:较大约200W阻抗匹配:自动

真空泵机组

双极旋片泵,极限真空0.1PaKFD25快接,不锈钢波纹管,手动挡板阀与法兰,真空泵相连.管内真空可达1Pa可选:本公司进口的防腐型数字式真空显示计,其测量范围为3.8x10-5至1125 Torr.不需因测量气体种类不同而需要系数转换。(需要另外计算费用

质量流量计

三通道的质量流量计(精度0.02%):数字显示,自动控制.MFC 1范围:0~100 sccmMFC 2和3:0~500 sccm一个混气罐,底部装有泄废液口.进气接口:1/4NPS.出气接口:1/4NPS.

水冷系统

水冷法兰要求:水流量>=10L/M,配有专业水冷机组。

管式炉

炉管直径:80mm炉管长度:1400mm炉膛长度:440mm控温精度:±1℃工作温度:≦1200℃


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