产品名称：迷你石墨烯CVD实验室设备

○ 产品介绍

本套CVD系统专为石墨烯生产设计，采用1200℃迷你管式炉，配有高精度质量流量计以及薄膜真空规。相比于常规的皮拉尼电阻规，薄膜规的读数精准，不受气体种类影响，十分适合真空镀膜工艺。同时设备配有可燃气体检测装置，联动出气口电磁阀，一旦出现泄漏电磁阀即可自行关闭保证**。
该套设备功能齐全占地面积较小，十分适合实验室制备CVD

○ 技术参数    

1200℃迷你管式炉参数 

供电电压	AC220V,50Hz
*大功率	2KW
加热温区	单温区200mm 恒温区长 100mm
加热元件	耐热合金丝
热电偶	K型
工作温度	≤1150℃
升温速率	建议≤10℃
控温	方式AI-PID 30段工艺曲线，带有过热和断偶保护，精度+-1℃
炉管	高纯石英φ50mm O.D x 450mm L
真空系统	机械泵  抽速1.1L/s 极限真空 5Pa

三路质量流量计参数

阀门类型	不锈钢针阀
气路数量	三路
承压范围	0.05~0.3MPa
量程	Ar 0~500sccm H2 0~200sccm CH4 0~10sccm
流量控制范围	±1.5%
混气罐容积	750mL
气路材料	304不锈钢
管道接口	6.35mm卡套接头
供电电源	AC220V 50Hz

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