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派瑞林真空气相沉积（PECVD）是一种常用的薄膜沉积技术，用于在材料表面上制备薄膜。它是在真空环境中使用气相化学反应来沉积薄膜的过程。在派瑞林真空气相沉积中，首先需要建立一个真空环境，以确保沉积过程中没有气体干扰。然后，通过将气体引入反应室中，使其与表面反应并沉积形成薄膜。
派瑞林真空气相沉积可以用于制备各种不同类型的薄膜，如氮化硅、氧化硅、氮化铝等。它在半导体、光电子、显示器件等领域有广泛的应用，可以用于制备薄膜电阻器、光学涂层、隔热层等。
派瑞林真空气相沉积具有一些优点，如沉积速度快、沉积均匀性好、可控性强等。然而，它也存在一些限制，如无法沉积大面积薄膜、需要高真空环境等。
总的来说，派瑞林真空气相沉积是一种重要的薄膜制备技术，可以在各种应用中提供高质量的薄膜材料。
派瑞林真空气相沉积设备参数:
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设备名称 |
派瑞林真空气相沉积设备 |
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产品型号 |
CY-VPC-300 |
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工作环境 |
电源：380V 五线 4 平方以上电缆，*大功率 l0KW |
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环境温度：0-40℃ |
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环境湿度：＜90% |
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尺寸 |
外观尺寸 1580*880*1550mm，占地面积约 1.5 平米， 安装时周围要留有50cm 以上的操作空间 |
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加热部分 |
升华区 |
原料仓：φ69*200mm 容量:300g |
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蒸发温度：室温 200℃ |
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温度偏差:±2℃ |
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裂解区 |
裂解温度:650-700℃ 温度稳定性: ±2℃ |
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保温区 |
加热温度＜300℃ |
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控制系统 |
品牌 |
PLC 控制系统 |
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程序 |
为自动沉积系统和手动沉积系统两部分 |
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显示 |
显示屏尺寸:12 寸触摸彩屏 |
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沉积系统 |
真空应体 |
1 个，尺寸φ300xH400 , 304 不锈钢 |
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腔体容积 |
28L |
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观察窗 |
1 个观察窗口，便于观察产品在沉积室的状态 |
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旋转部分 |
马达转速可调 1-10 转／分 |
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真空系统 |
真空泵 |
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真空计 |
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制冷系统 |
天寒TH-95-15-G(锅式)，制冷温度≤90℃制冷启动后30分钟内可从室温到-70℃ |
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偶联剂蒸发装置 |
提高派瑞林涂层与需要做涂层基材表面的结合力 |
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设备主要部件 |
1、蒸发系统： 蒸发舱、电力n热装置、温度传感器 2、裂解系统：裂解舱 、电力日热装置、温度传感器 3、沉积系统：沉积舱 、真空传感器 、样品架 4、真空系统： 真空泵、真空计 5、冷凝系统：锅式冷阱 6、设备主机：设备外壳、控制电路、真空管道 7、石英管： 1根 |
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可沉积原料类型 |
Parylene C、N、F、D |
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设备特点 |
1、气化加热可移动，适合连续生产，如出现突然停电等意外情况可以随时移掉加热，保证产品**． 2、气化部分部分为透明玻璃管，可以随时查看料的情况，并可以保持低温生产，满足高要求镀膜． 3、气化可以移动，是派坷**设置，可以保证无**冲突，生产**。 4、腔体内部转架特殊设计可以有效减少坏点的数量． 5、可视化、人性化界面，操作简单易懂． 6、玻璃管，可以大大降低升温降温时间． 7、保温部分做优化，使得派瑞林不易在玻璃管内壁沉积，可以长期不用保养，减少保养时间 |
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