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三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备
三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶为2英寸，客户可以根据所镀基板的大小自主选购；所配电源为两个500W直流电源，一个300W射频电源，直流电源可用于金属薄膜的制备，两个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。
镀膜仪具有两路高精度质量流量计，客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路，以满足复杂的气体环境构建需求；仪器标配先进的涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制，可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品，大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制，在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能，可以进一步提高您的实验效率。
技术参数：
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产品名称 |
分体式高真空三靶磁控溅射镀膜仪 |
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产品型号 |
TN-MSH325-III-DCDCRF-SS |
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供电电压 |
AC220V，50Hz |
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整机功率 |
6KW |
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系统真空 |
≦5×10-4Pa |
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样品台 |
外形尺寸 |
φ150mm |
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加热温度 |
≦850℃ |
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控温精度 |
±1℃ |
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可调转速 |
≦20rpm |
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磁控靶枪 |
靶材尺寸 |
直径Φ50.8mm，厚度≦3mm |
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冷却模式 |
循环水冷 |
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水流大小 |
不小于10L/Min |
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数量 |
3 |
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真空腔体 |
腔体尺寸 |
直径φ325mm |
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腔体材质 |
SUU304不锈钢 |
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观察窗口 |
直径φ100mm |
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开启方式 |
顶开式 |
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气体控制 |
1路质量流量计用于控制Ar流量，量程为:200SCCM |
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真空系统 |
配分子泵系统1套，气体抽速600L/S |
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膜厚测量 |
可选配石英晶体膜厚仪，分辨率0.10 Å |
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溅射电源 |
配直流电源,功率500W*2 射频电源300W |
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控制系统 |
CYKY自研专业级控制系统 |
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设备尺寸 |
570mm×1040mm×1700mm |
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设备重量 |
350kg |
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