0371-5536 5392 0371-5519 9322
本设备为桌面型单靶磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，将设备外形限制在了桌面级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电源，能够用于溅射金属材料，具有速度快温升低等特点。真空腔体整体采用下置靶设计，溅射效果好，杂质污染少，能*大限度的保护样品。
桌面型靶下置型磁控镀膜技术参数：
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CY-MSP180S-DC-GU |
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样品台 |
尺寸 |
φ100mm |
加热 |
*高500℃ |
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转速 |
0-20可调 |
安装方式 |
上置于腔体上盖，样品安装为夹持式 |
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磁控溅射靶 |
数量 |
2” x1 下置安装与腔体下法兰 |
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真空腔体 |
腔体尺寸 |
φ180mm X 215mm |
观察窗口 |
前置式 φ60mm |
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腔体材料 |
SS304 |
开启方式 |
上顶开式 |
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真空系统 |
机械泵 |
旋片泵 |
抽气接口 |
KF16 |
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分子泵 |
涡轮分子泵 |
抽气接口 |
KF40 |
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真空测量 |
电阻规+电离规 |
排气接口 |
KF16 |
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极限真空 |
1.0E-4Pa |
供电电源 |
AC 220V 50/60Hz |
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抽气速率 |
机械泵1.1L/s 分子泵60L/s |
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电源配置 |
数量 |
直流电源 x1 |
*大输出功率 |
直流电源300W |
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其他 |
供电电压 |
AC220V,50Hz |
整机尺寸 |
550mm X 350mm X400mm |
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整机功率 |
2kW |
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