产品名称：桌面型单靶磁控溅射镀膜仪

桌面型单靶磁控镀膜仪可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。本套配置采用英真空腔体，镀膜过程全向可视，便于实验的观察记录，腔体设计开启方便，易于清理，十分适合实验室使用。
旋转加热样品台可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。整机采用模块化设计，操作逻辑简单，操作界面直观，利于上手。该型号可选配膜厚仪组件，可实时监测膜厚数据，为实验工艺提供可靠参数。

名称	桌面型单靶磁控镀膜仪
型号	TN-MSP180G-DC
特点	A.小型化设计，将设备外形限制在了桌面级别 B.旋转加热样品台，有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量 C.可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等 D.可选配膜厚仪组件，可实时监测膜厚数据
技术参数	1.样品台： 直径100mm， *高温度500℃控温精度 ±1℃，可旋转 0-20rpm 可调 2.磁控靶枪： 2 英寸圆形平面靶,水冷  3.真空腔体： Φ180mm × H 215mm;高纯石英; 观察窗口 全向透明; 开启方式 顶盖拆卸式 4.直流电源： 1台，输出功率≤300W，输出电压≤600V，响应时间＜5ms 5.水冷系统 水箱容积 9L 流量 10L/min 6.供电电压：AC220V 50H 整机功率 2kw 7.膜厚仪 测量精度 0.1埃米 冷却方式 水冷（可选配膜厚仪组件，可实时监测膜厚数据） 8.本设备不含真空泵，用户应搭配分子泵组进行使用，推荐本公司CY-GZK103A泵组。