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TN-MSP325S-3RF-D UPS三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的高性价比的磁控溅射镀膜设备。 它是标准化，模块化和可定制的。该装置可用于制备单层或多层铁电薄膜，导电膜，合金膜，半导体膜，陶瓷膜，介电膜，光学膜，氧化物膜，硬膜，PTFE膜等。 与同类设备相比，这种三靶磁控溅射镀膜机不仅用途广泛，而且具有体积小，操作简便的优点，是实验室制备材料膜的理想设备。
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名称 |
UPS三靶磁控溅射镀膜仪 |
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型号 |
TN-MSP325S-3RF-D |
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电源电压 |
交流220v，60Hz |
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UPS |
20KVA 16KW，延迟1小时 16节电池，容量38AH |
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真空室 |
尺寸：直径 325毫米*高385毫米 材质：304不锈钢 视口（窗口）：约4英寸（100毫米），带快门 |
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样品台 |
顶部样品架 样品表：直径 150毫米 样本数量：*大 直径4英寸 转速：0-40rpm可调 加热温度：*高700C |
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水冷装置 |
水流量：2.3m3 / h 电源：3P 制冷量：8250Kcal / h 压缩机输出功率：2.25KW |
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磁控溅射枪 |
3×2''磁控溅射枪，带自动快门 向上溅射方向 目标直径：2英寸 磁铁：稀土磁铁 |
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质量流量计 |
3×MFC质量流量控制（Ar，O2和N2） 测量范围：*大20sccm 带气动隔离阀和过滤器。 |
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通过PC或PLC全自动控制 |
储存至少100个配方 19''平板控制器 |
射频发生器3×RF 300W自动匹配电源
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功率输出范围 |
5W〜300W |
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MAX.大反射功率： |
100W |
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电源稳定性 |
±0.1％ |
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谐波成分 |
≤-50dbc |
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电源 |
≤-50dbc |
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效率 |
≥70％ |
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功率因数 |
≥90％ |
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反射功率（*大功率 |
<3W |
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比赛时间 |
1〜3s |
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射频输出接口 |
50Ω，L29或定制 |
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MAX.大负载 |
电流：30ARMS ，电压：7500VRMS |
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匹配阻抗 |
实部范围：0〜80Ω 虚部范围：﹣200j〜﹢ 200j |
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冷却方式 |
强制冷却 |
