0371-5536 5392 0371-5519 9322
-
三靶向上磁控溅射镀膜仪 三靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介电薄膜、光学薄膜、氧化膜、硬...
-
光纤绕丝单靶磁控溅射镀膜仪 单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪是一种用于制备薄膜的设备。它可以在基板表面形成均匀、致密、薄且具有特定性质的膜层
-
带过渡舱三靶磁控溅射镀膜仪 三靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。
-
台式紧凑型三靶磁控溅射镀膜... CY-VTC-3DC是专为非金属薄膜镀膜设计的三头2"射频等离子磁控溅射系统，主要用于多层氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜...
-
双靶直流磁控溅射镀膜仪 双靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用...
-
单靶直流磁控溅射镀膜仪 单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，...
-
带过渡舱型双靶磁控溅射镀膜... 本设备为双靶磁控溅射镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品...
-
三英寸三靶磁控溅射镀膜仪 三靶磁控镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬...