产品名称：台式紧凑型三靶磁控溅射镀膜仪

CY-VTC-3DC是专为非金属薄膜镀膜设计的三头2"射频等离子磁控溅射系统，主要用于多层氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性价比*高的镀膜机 . 直流磁控溅射选项可根据要求提供金属薄膜沉积，实现三个直流、一个射频/两个直流和两个射频/一个直流溅射头配置。

磁控溅射镀膜仪技术参数：

输入功率	·单相110V AC,50/60Hz ·1000W（含真空泵和冷水机）
磁控溅射靶	·包括三个带水冷夹套的 2" 磁控溅射头，通过快速夹具插入石英室 ·射频电缆更换可在CYKY购买 ·法兰上内置一个手动百叶窗 ·包括一台10L/min数控循环冷水机，用于冷却溅射头
溅射靶材	·靶材尺寸要求：2" 直径 x 1/8" *大厚度 ·溅射距离范围：50-80mm可调 ·溅射角度范围：0-25°可调 ·2"直径Cu靶和Al2O3靶包括用于演示测试 ·可根据要求提供各种氧化物 2" 溅射靶材，但需额外付费 ·对于目标键合，包括 1 mm 和 2 mm 铜背板。
真空腔体	·真空腔体：300 毫米外径 x 500 毫米高，由不锈钢制成 ·密封法兰：直径274毫米。由铝制成，带有高温硅胶O型圈 ·包括不锈钢屏蔽笼，100% 屏蔽来自腔室的射频辐射 ·*大真空度：1.0E-5 Torr，可选配涡轮泵和腔体烘烤
样品台	·样品台是一个可旋转的加热台，由陶瓷加热器制成，带有不锈钢盖 ·样品台尺寸：直径50毫米，适合*大 2" 晶圆 ·转速：1-10转可调，涂层均匀 ·支架温度可从室温调节至*高 600 °C（600 °C 时*高 5 分钟；500 °C 时*高 2 小时），通过数字温度控制器精度为 +/- 1.0 °C
真空泵	·内置KF40真空接口，用于连接真空泵。 ·真空度：1.0E-2 Torr 含双级机械泵 1.0E-3 Torr 带可选涡轮泵
整机尺寸	540 mm L x 540 mm W x 1000 mm H
包装重量	大约 145 kg
保修单	一年有限保修，终身支持
是否支持定制	是