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  • 产品名称：三英寸三靶磁控溅射镀膜仪

  • 产品型号：CY-MSP300S-2DC1RF
  • 产品厂商：泰诺
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简单介绍：
三靶磁控镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备
详情介绍：
三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。三个3英寸磁控靶，一支是强磁靶，2支永磁靶；所配电源为2个500W直流电源和1个300W射频电源，直流电源可用于金属薄膜的制备，射频电源可用于非金属膜的制备，三个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。

镀膜仪配有两路高精度质量流量计，客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路，以满足复杂的气体环境构建需求；仪器标配先进的涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制，可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品，大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制，在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能，可以进一步提高您的实验效率。

实验室磁控溅射镀膜仪价格

三靶磁控镀膜仪应用范围：

该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。

三靶磁控镀膜仪技术参数：

产品名称

三靶磁控溅射仪---靶枪下置（英文操作界面）

产品型号

CY-MSP300S-2DC1RF

溅射电源

安装有2个直流，一个射频

直流（DC）电源：500W  射频: 300W

真空腔体

真空腔体：450 mm Dia x 450 mm h，采用不锈钢制作观察窗口：  100 mm diameter

磁控溅射头

仪器中安装有3个3英寸磁控溅射靶枪（其中的一支是强磁靶，2支永磁靶），而且都带有水冷夹层，可通入冷却水对靶材降温

载样台

载样台尺寸：150mm dia.（载样台可以旋转，其速度为：1 - 20 rpm （可调）

载样台*高可加热温度为750℃，控温精度为+/- 1.0 °C

气体流量控制器

仪器内部安装有1个质量流量计

量程为：0-200sccm （氩气）

气体流量设置可以在15.6寸屏智能控制系统

真空泵

配有一套分子泵系统,采用一键式操作600L/S

真空计

英孚康皮拉尼真空计MPG400

测量范围： 5 x 10-9 mbar ---大气压

薄膜测厚仪

石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 Å 

电压

220V 50HZ

备注

1.3支3寸溅射靶（其中的一支是强磁靶，2支永磁靶）

2.1路流量计

3.不锈钢真空腔体

4.分子泵组

5.膜厚检测仪

6.2台直流电源，一台射频电源

7.水冷机组

8.带旋转加热样品台

9.15.6寸屏智能控制系统

10.空气压缩机

11.电控气动闸板阀

12.电控气动切断阀

13.电控气动旁抽阀

14. 英孚康真空计 MPG 400 测量范围