产品名称：单靶直流磁控溅射镀膜仪

单靶直流磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸3英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选择；所配电源为1500W大功率直流电源，可用于高能量的金属溅射镀膜，根据实验需求也可以选配其他规格的直流或者射频电源来实现各种材料的镀膜操作。

镀膜仪具有两路高精度质量流量计，客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路，以满足复杂的气体环境构建需求；仪器标配先进的涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制，可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品，大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制，在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能，可以进一步提高您的实验效率。

单靶磁控溅射镀膜仪适用范围：

该设备可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

单靶磁控溅射镀膜仪技术参数：

单靶直流磁控溅射镀膜仪
样 品 台	外形尺寸	φ185mm
	加热范围	室温～500℃
	可调转速	1-20rpm可调
磁 控 靶 枪	靶材平面	圆形平面靶
	溅射真空	10Pa～0.2Pa
	靶材直径	50～50.8mm
	靶材厚度	2～5mm
	绝缘电压	>2000V
	电缆规格	SL-16
	靶头温度	≦65℃
真 空 腔 体	内壁处理	电解抛光
	腔体尺寸	φ300mm × 300mm
	腔体材料	304不锈钢
	观察窗口	石英窗口，直径φ100mm
	开启方式	上顶开启，气缸辅助支撑
气 体 控 制	流量控制	质量流量计，量程0～200SCCM氩气
	调节阀类型	电磁调节阀
	调节阀静止状态	常闭
	测量线性度	±1.5%F.S
	测量重复精度	±0.2%F.S
	测量响应时间	≤8秒（T95）
	工作压差范围	0.3MPa
	阀体耐压	3MPa
	工作环境温度	（5～45）℃
	阀体材料	不锈钢316L
	阀体漏率	1×10-8Pa.m3/s
	管道接头	1/4″卡套接头
	输入输出信号	0～5V
	供电电源	±15V（±5%）（＋15V  50mA,  －15V  200mA）
	外形尺寸mm	130（宽）×102（高）×28（厚）
	通讯接口	RS485 MODBUS协议
直流电源	电源功率	500W
	输出电压	0～600V
	定时长度	65000秒
	启动时间	1～10秒
膜 厚 测 量	电源要求	DC:5V（±10%） *大电流 400mA
	分辨率	±0.03Hz(5-6MHz),0.0136Å /测量(铝)
	测量精度	±0.5%厚度+1计数
	测量周期	100mS～1S/次（可设置）
	测量范围	500,000 Å (铝)
	晶体频率	6MHz
	通讯接口	RS-232/485串行接口
	显示位数	8位LED显示
分子泵	分子泵抽速	80L/S
	额定转速	65000rpm
	振动值	≦0.1um
	启动时间	≦4.5min
	停机时间	<7min
	冷却方式	风冷
	冷却水温度	≦37℃
	冷却水流速	1L/min
	安装方向	垂直±5°
	抽气接口	150CF
	排气接口	KF40
前级泵	抽气速率	1.1L/S(VRD-4)
	极限真空	5×10-2Pa
	供电电源	AC:220V/50Hz
	电机功率	400W
	噪音	≦56db
	抽气接口	KF40
	排气接口	KF25
	放气阀	真空腔体上装有气动电控放气阀
整机极限真空		≦5×10-4Pa
真空腔体升压率		≦2.5Pa/h
软件系统		监控管理软件1套
测试靶材		直径2英寸厚度3mm的铜靶材2个