产品名称：光纤绕丝单靶磁控溅射镀膜仪

单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪是一种常见的物**相沉积（PVD）技术，用于制备各种薄膜材料。其工作原理是使用一种叫做磁控溅射的技术，将高纯度的金属或合金靶材溅射生成离子和中性原子，并将它们沉积在基底上形成薄膜。在这种溅射系统中，使用单个靶材，通常是金属或合金的圆盘形，通过在靶材上施加高电压和磁场，将靶材表面的粒子加速并喷向基底。由于基底通常是经过高温处理过的，因此溅射的金属粒子会快速扩散并形成均匀的薄膜。

为了增加溅射速率和膜质量，光纤绕丝技术被引入其中。在光纤绕丝技术中，将纤维绕在靶材和基底之间，形成一条薄薄的缝隙。通过调整靶材和基底之间的距离并控制溅射能量，可以更加**地控制沉积在基底上的薄膜的厚度和组成。

单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪是一种用于制备薄膜的设备。它可以在基板表面形成均匀、致密、薄且具有特定性质的膜层。

这种溅射系统非常适合制备高质量、高纯度、均匀性好的金属和合金薄膜，广泛应用于微电子、光学、电池、太阳能电池等领域。

1. 光学薄膜制备：用于制作高反射、抗反射等光学薄膜。

2. 电子器件制备：用于制备半导体器件、导电膜等。

3. 光学器件制备：用于制备太阳能电池、液晶显示器、LED等器件。

4. 防护涂层制备：用于制备具有防水、防油、防紫外线、防磨损等性能的涂层。

总的来说，单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪广泛应用于科研和工业领域中的薄膜制备。

技术参数：

绕丝机构	尺寸	Φ15mmx245mm
	绕丝速度	1-300r/min
磁控溅射头	数量	2 英寸 x1	冷却方式	水冷
真空腔体	腔体尺寸	Φ213mm X 307mm	观察窗口	φ80mm
	腔体材料	不锈钢 304	开启方式	上顶开式、左侧开式
电源配置	直流电源数量	1 台	输出功率	≤300W
	匹配方式	自动匹配
水冷系统	水箱容积	9L	流量	10L/min
供气系统	类型	手动微量调节阀
真空系统	前级泵	双极旋片泵	抽速	1.1L/s
	次级泵	涡轮分子泵	抽速	60L/s
	抽气口	ISO63	出气口	KF16
	真空计	复合真空计
其他	供电电压	AC220V,50Hz	整机功率	2kw