三靶磁控溅射镀膜装置的制作方法

多功能三靶磁控溅射镀膜装置。

背景技术：

2.磁控溅射设备是一种常见的物**相沉积设备，已经成功应用于各种薄膜的制备工艺。大部分传统的磁控溅射设备只包含一个溅射靶，工作时腔体内只能安装一种溅射把材料，若要用这样的设备沉积不同种薄膜材料，则需要打开主腔体，对靶材进行拆除与安装，不仅效率低下，同时也很难获得稳定的生长工艺。这种设备只能满足长期溅射一种薄膜材料的需求，不利于制备复合膜；传统的磁控溅射设备中的基片架仅能对基片进行加热，不能同时旋转，这样在膜层沉积的过程中会导致基片加热不均匀，影响镀膜质量；因基片与靶材之间的距离是固定的，如此镀膜的沉积效率较低。

技术实现要素：

3.本实用新型的目的是为了解决上述背景技术中的问题，而提出的一种多功能三靶磁控溅射镀膜装置。
4.为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
5.一种多功能三靶磁控溅射镀膜装置，包括真空镀膜室，所述真空镀膜室内转动安装有三个呈环形均匀分布的偏转杆，所述偏转杆的一端固定安装有磁控靶，所述偏转杆与真空镀膜室之间安装有角度调控组件，所述真空镀膜室内设有基片架，所述基片架内部设有加热器，且基片架位于磁控靶上方设置，所述基片架与真空镀膜室之间安装有旋转升降机构。
6.所述旋转升降机构包括转动安装在真空镀膜室顶部中心处的转筒，所述转筒内活动插设有螺纹杆，且螺纹杆的底端与基片架相连接，所述转筒的内筒壁上对称开设有滑槽，且螺纹杆的杆壁上对称安装有与滑槽相对应的滑块，所述转筒的顶部沿边转动安装有与螺纹杆螺纹套接的螺纹套筒，所述螺纹套筒与真空镀膜室之间安装有驱动组件。
7.所述驱动组件包括驱动电机，所述驱动电机与真空镀膜室顶部之间安装有l型支撑架，且驱动电机的输出轴上固定套接有主动齿轮，所述转筒的外筒壁上固定套接有与主动齿轮相啮合的从动齿轮。
8.所述角度调控组件包括转动安装在真空镀膜室内部下表面中心处的传动杆，所述传动杆的顶端同轴连接有丝杆，所述丝杆上套接有匹配的螺母，所述螺母的外侧壁上铰接有三个呈环形均匀分布的连杆，所述连杆的另一端与对应的偏转杆相铰接，所述真空镀膜室的侧壁上转动安装有转杆，所述转杆的一端安装有主动锥齿轮，所述传动杆上固定套接有与主动锥齿轮相啮合的从动锥齿轮。
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