产品详情
  • 产品名称:双靶磁控溅射镀膜仪

  • 产品型号:TN-600-2HD
  • 产品厂商:泰诺
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简单介绍:
双靶磁控溅射镀膜仪CY-600-2HD为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。与同类设备相比,这款双靶磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛,切体积小便于操作,是一款实验室制备薄膜的理想设备。
详情介绍:

○ 产品介绍

双靶磁控溅射镀膜仪CY-600-2HD为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。与同类设备相比,这款双靶磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛,切体积小便于操作,是一款实验室制备薄膜的理想设备。


○ 适用范围

可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。


○ 产品特点

1:此款镀膜仪配置有两个靶枪:一个靶枪配套的是射频电源,用于非导电靶材的溅射镀膜;一个靶枪配套的是直流电源,用于导电材料的溅射镀膜。
2:该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜,应用非常广泛。
3:该镀膜仪体积较小,且配备有触摸屏控制面板,操作方便。


○ 技术参数

 电源 

 220V 50Hz 

 样品台转速 

 1~20rpm可调 

 功率 

 2000W(含真空泵) 

 保护气体 

 Ar、N2等惰性气体 

 极限真空度 

 10-6torr 

 进气气路 

 2路气路,质子流量计控制,每个流量为100sccm 

 工作温度 

 室温~500℃ 

 炉体尺寸 

 500×560×660mm 

 靶枪数量 

 2个(可选配其他数量) 

 整机尺寸 

 1300×660×1200mm 

 靶枪冷却方式 

 水冷 

 重量 

 160kg 

 靶材尺寸 

 Φ50mm,厚度0.1~5mm 

 可选配件 

 Au、In、Ag、Pt等 

 直流溅射功率 

 500W 

 样品台转速 

 1~20rpm可调 

 射频溅射功率 

 300W/500W 

 配件 

 直流电源控制系统1件;射频电源控制系统1件; 膜厚仪1套;分子泵1台;冷水机1台;冷却水管(φ6mm) 靶材(不锈钢靶、陶瓷靶) 

 样品台尺寸 

 140mm 

 包装 

 三合板木质包装


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