产品名称：靶下置型双靶DCRF磁控溅射镀膜仪

○ 产品介绍

TN-MSP500S-DCRF-B 靶下置型双靶磁控  为我公司研发的配有两个靶位的实验室专用镀膜仪，采用靶下置布局，样品台在上方，与靶面高度可通过程序可调，并且可旋转加热，性能优异。设备配有一台直流电源，一台射频电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。

磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。

○ 适用范围

可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。

○ 产品特点

1：靶下置布局，样品台在上方，与靶面高度可通过程序可调，并且可旋转加热。
2：直流电源和射频双电源可以制备多种不同材料的薄膜，应用广泛。
3：磁控靶配有水冷夹层，水冷机有效的带走热量，避免热量聚集 

○ 技术参数

供电电压	AC220V,50Hz	整机功率	6KW
极限真空	5*10-4Pa	样品台尺寸	φ150mm
样品台加热	≤500℃	样品台转速	1-20rpm
磁控溅射头规格	2"	磁控溅射头冷却方式	10L/民 循环水冷机
真空腔体尺寸	φ500mm*490mmH	腔体材料	不锈钢
观察窗	φ100mm	腔体开启方式	前开门式
气体流量控制器	1路200sccm Ar	真空泵	一套分子泵系统，抽速600L/S
膜厚仪	石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10 Å	射电源	直流电源1台，500W，适用于制备金属膜 射频电源1台，500W，适用于非金属镀膜
操作方式	一体机电脑操作	规格	整机尺寸 1090mm X 900mm X 1250mm 整机重量 350kg

○ 免责声明

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