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  • 产品名称:小型单靶磁控溅射镀膜仪

  • 产品型号:TN-MSP180G-DC
  • 产品厂商:泰诺
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简单介绍:
小型单靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有小型化、标准化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选择;所配电源为500W直流电源,可用于金属溅射镀膜。
详情介绍:

小型单靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有小型化、标准化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选择;所配电源为500W直流电源,可用于金属溅射镀膜。镀膜仪配有通气接口,可以通入保护性气体,若客户需要通入混合气体,可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。仪器标配先进的涡轮分子泵组,极限真空可达10E-5Pa,同时另有其他类型的分子泵可供选购。

小型单靶磁控溅射镀膜仪适用范围:

该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,经过小型化设计,高度集成,体积小巧,可以放置于桌面上使用,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

小型单靶磁控溅射镀膜仪技术参数:


小型单靶磁控溅射镀膜仪

样品台

尺寸

φ138mm

控温精度

±1

 

加热温度

*500

转速

1-20rpm可调

磁控溅射头

数量

2” x1 1”,2”可选)

水冷机规格

10L/min流速的循环水冷机

 

冷却方式

水冷

 

 

真空腔体

腔体尺寸

φ180mm × 215mm

观察窗口

全向透明

 

腔体材料

高纯石英

开启方式

顶盖拆卸式

真空系统

产品型号

TN-GZK103-A

抽气接口

KF40

 

分子泵

TN-600

排气接口

KF16

 

前极泵

旋片泵

真空测量

复合真空计

 

极限真空

1.0E-5Pa

供电电源

AC;220V 50/60Hz

 

抽气速率

分子泵:600L/S  旋片泵:1.1L/S  综合抽气性能:20分钟真空度可达: 1.0E-3Pa

电源配置

数量

直流电源 ×1

*大输出功率

150W

其他

供电电压

AC220V,50Hz

整机尺寸

500mm × 350mm × 400mm

 

整机功率

1.7KW(真空泵组1.5KW+本机0.2KW

整机重量

30kg


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