产品详情
  • 产品名称:小型单靶磁控溅射镀膜仪

  • 产品型号:TN-MSP180G-DC
  • 产品厂商:泰诺
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简单介绍:
小型单靶磁控溅射镀膜仪是我公自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有小型化、标准化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择,该小型单靶磁控溅射镀膜仪所配电源为500W直流电源,可用于金属溅射镀膜。
详情介绍:

TN-MSP180G-DC小型单靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有小型化、标准化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选择;所配电源为500W直流电源,可用于金属溅射镀膜。


适用范围:小型单靶磁控溅射镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,经过小型化设计,高度集成,体积小巧,可以放置于桌面上使用,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。


名称
小型单靶磁控溅射镀膜仪
TN-MSP180G-DC
  • 自主研发、高性价比
  • 结构紧凑可放置于桌面
  • 1英寸或2英寸,标准尺寸磁控靶
  • 500W直流电源,金属溅射镀膜
参数
  1. 1、旋转加热样品台:尺寸φ138mm;加热温度:max temp:500℃;控温精度:±1℃;转速:1-20rpm可调
  2. 2、磁控溅射头:数量2” ×1(1”,2”可选)  10L/min流速的循环水冷
  3. 3、真空腔体:尺寸:φ180mm × 215mm、材料高纯石英、全向透明、顶盖拆卸式4、
  4. 4真空系统:产品型号TN-GZK103-A     
  5. 分子泵 TN-600     前极泵:旋片泵  
                  抽气速率:分子泵:600L/S;旋片泵:1.1L/S(  综合抽气性能:20分钟真空度可达:1.0E-3Pa) 

                  供电电源:AC220V 50/60Hz

                  抽气接口:KF40; 排气接口:KF16

                  真空测量复合真空计:电阻规+电离规
                  极限真空:1.0E-5Pa  
  6. 5电源配置:直流电源 ×1;max输出功率:150W
         
规格
尺寸:500mm × 350mm × 400mm;重量30kg ;电压:AC220V,50Hz;功率:1.7KW(真空泵组1.5KW+本机0.2KW)
注意:镀膜仪配有通气接口,可以通入保护性气体,若客户需要通入混合气体,可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。仪器标配先进的涡轮分子泵组,极限真空可达10E-5Pa,同时另有其他类型的分子泵可供选购。


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