产品详情
  • 产品名称:单靶射频磁控溅射镀膜仪

  • 产品型号:TN-MSP300S-RF
  • 产品厂商:泰诺
  • 产品文档:
你添加了1件商品 查看购物车
简单介绍:
单靶射频磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸3英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选择;所配电源为300W射频电源,可用于非金属膜、光学膜的溅射,根据实验需求也可以选配其他规格的直流或者射频电源来实现各种材料的镀膜操作。
详情介绍:
         单靶射频磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸3英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选择;所配电源为300W射频电源,可用于非金属膜、光学膜的溅射,根据实验需求也可以选配其他规格的直流或者射频电源来实现各种材料的镀膜操作。

        镀膜仪具有两路高精度质量流量计,客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路,以满足复杂的气体环境构建需求;仪器标配先进的涡轮分子泵组,极限真空可达10E-5Pa,同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制,可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品,大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制,在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能,可以进一步提高您的实验效率。

单靶射频磁控溅射镀膜仪用途:

        该设备可用于制备单层或多层陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

单靶射频磁控溅射镀膜仪技术参数:


单靶磁控溅射镀膜仪(射频)

样品台

尺寸

φ185mm

控温精度

±1

 

加热温度

*500

转速

1-20rpm可调

磁控溅射头

数量

2” ×1 1”,2”,3”可选)

水冷机规格

10L/min流速的循环水冷机

 

冷却方式

水冷

 

 

真空腔体

腔体尺寸

φ300mm × 300mm

观察窗口

φ100mm

 

腔体材料

不锈钢

开启方式

上顶开式

质量流量计

2路;量程100SCCM100SCCM(可根据客户需要定制多路气路)

真空系统

产品型号

TN-GZK103-A

抽气接口

KF40

 

分子泵

TN-600

排气接口

KF16

 

前极泵

旋片泵

真空测量

复合真空计

 

极限真空

1.0E-5Pa

供电电源

AC;220V 50/60Hz

 

抽气速率

分子泵:600L/S  旋片泵:1.1L/S  综合抽气性能:20分钟真空度可达: 1.0E-3Pa

电源配置

数量

射频电源 ×1

*大输出功率

300W

 

其他

供电电压

AC220V,50Hz

整机尺寸

600mm × 650mm × 1280mm

 

整机功率

2KW

整机重量

300kg

○ 免责声明

本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等),仅供参考。泰诺公司产品在不断更新,网站内容可能由于更新不及时,或许导致所述内容与实际情况存在一定的差异,请与本公司销售人员联系确认。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,泰诺公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知。