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  • 产品名称：双靶射频磁控溅射镀膜仪

  • 产品型号：TN-MSP300S-2RF
  • 产品厂商：泰诺
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简单介绍：
双靶射频磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发，双靶射频磁控溅射镀膜仪两个300W射频电源，射频电源可用于非金属薄膜的制备，两个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。
详情介绍：

TN-MSP300S-2RF 双靶射频磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。可用于制备单层或多层陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。

特点：

1. 磁控靶有1英寸2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选购；
2. 两个射频电源，300w-1000W射频电源可用于非金属薄膜的制备，两个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。
3. 高精度质量流量计，客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路，以满足复杂的气体环境构建需求；
4. 涡轮分子泵组，极限真空可达10E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制，可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品，大大提高了您的工作效率。
5.一体机工控电脑对系统进行控制，在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能，可以进一步提高您的实验效率。

技术参数：

型号

TN-MSP300S-2RF

供电电压

AC220V，50Hz

整机功率

6KW

极限真空度

5*10-4Pa

样品台

尺寸：φ150mm

加热温度：500℃ max.；控温精度：+-1℃

转速：1-20rpm 可调节

磁控溅射头

尺寸：2英寸，数量：2；冷却方式：水冷 所需流速10L/min 

水冷机：10L/min 循环水冷

真空腔体

尺寸：φ300mm*340mm；材料：不锈钢

观察窗：φ100mm；开启方式：上顶开启，便于更换靶材

气体流量控制

1路，200sccm ，Ar

真空泵

分子泵组，抽速600L/S

溅射电源

两台 射频电源 500-1000W 可选

膜厚仪

石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10 Å

操作方式

一体机电脑操作

整机尺寸

1090mm X 900mm X 1250mm

整机重量

350kg

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