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本设备为单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。
本套配置采用高真空不锈钢腔体，腔体设置带挡板的石英观察窗，便于实验的观察记录；腔体设计真空性能优良，造型小巧，十分适合实验室使用。同时设备配有旋转加热样品台，可以有效提高薄膜的均匀性和成膜的质量。整机采用模块化设计，操作逻辑简单，操作界面直观，利于上手。
单靶磁控镀膜仪技术参数：
产品名称
桌面型不锈钢腔体单靶磁控溅射镀膜仪
产品型号
CY-MSP190S-1T-A
安装条件
1、使用环境温度 25℃±15℃，湿度 55%Rh±10%Rh；
2、设备供电：AC220V，50Hz，必须有良好接地；
3、额定功率：1000w；
4、设备用气：设备腔室内需充注氩气清洗，需客户自备氩气，纯度 ≥99.99%；
5、摆放工作台尺寸要求 600mm×600mm×700mm，承重 50kg 以上；
6、摆放位置要求通风散热良好。
技术参数
1、 溅射电源：直流电源300W；*大输出电压600V，极限输出电流500mA
2、 磁控靶：2英寸平衡靶，配磁耦合挡板；
3、 磁控靶适用靶材： φ50mm x 3mm厚
4、 腔体尺寸：外径φ194mm ，内径186mm x 高230mm；
5、 腔体材质： 304不锈钢
6、 旋转加热样品台：转速1~20rpm 连续可调；加热温度*高500℃，升温速度推荐10℃/min，*高20℃/min。
7、 冷却方式：磁控靶及分子泵需要循环水冷机；
8、 水冷机：水箱容积9L，流速10L/min
9、 供气系统：质量流量计， 气体类型Ar气，流量1~30sccm（可定制）；
10、 流量计精度：±1.5%量程
11、 真空腔体抽气接口为 KF40；
12、 进气接口为 1/4 英寸双卡套接头；
13、 显示屏为7英寸彩色触摸屏；
14、 可调节溅射电流，可设置溅射**电流值、**真空值；
15、 **保护：过流、真空过低自动切断溅射电流；
16、 极限真空：5E-4Pa(搭配分子泵)；
17、 真空测量为电阻规真空计，其量程为：1～105Pa
注意事项
1、磁控溅射工作真空较高，一般在2Pa之内，需要配分子泵使用。
2、为了达到较高的无氧环境，至少要用高纯惰性气体对真空腔体清洗 3 次。
3、磁控溅射对进气量比较敏感，需要使用质量流量计控制进气量
可选配件
膜厚监测仪
1、膜厚分辨率：0.0136Å（铝）
2、膜厚准确度：±0.5%，取决于过程条件，特别是传感器的位置，
材料应力，温度和密度
3、测量速度：100ms-1s/次，可设置测量范围：500000Å（铝）
4、标准传感器晶体：6MHz
5、适用晶片频率：6MHz 适用晶片尺寸：Φ14mm 安装法兰：CF35
其他配件
1、CY-CZK103系列高性能分子泵组（含复合真空计，测量范围10-5Pa~105Pa）；
CY-GZK60系列小型分子泵组（含复合真空计，测量范围10-5Pa~102Pa）
VRD-4双极旋片真空泵；
2、KF40真空波纹管；长度可选0.5m、1m、1.5m；KF40卡箍支架
3、膜厚仪晶振片；
