产品名称：往复样品台双靶DCRF磁控溅射镀膜仪

○产品介绍

TN-MSP500S-DCRF-RE往复样品台型双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的实验室专用镀膜仪，磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。本型号样品台采用往复式设计，左侧配有磁力耦合推杆，可将样品台左右推动。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。整机均采用触控屏控制，内置一键式镀膜程序，操作简单易上手，是一款实验室制备薄膜的理想设备.

○适用范围

设备配有一台直流电源，一台射频电源，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。

○产品特点

1、双靶共同溅射或者反应溅射

2、磁控靶带水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量。  

3、样品台往复式设计，左侧配有磁力耦合推杆，样品台左右推动

4、直流加射频电源满足多种材料溅射

5、触控屏控制，内置一键式镀膜程序

○技术参数

供电电压	AC220V，50Hz	机功率	6KW
极限真空度	5x10-4Pa	样品台尺寸	100mm x 100mm
样品台往复行程	200mm	磁控溅射头	2个2”磁控溅射头
磁控溅射头冷却方式	10L/min流速的循环水冷机	腔体尺寸	φ500mm X 490mm H
腔体材料	不锈钢	观察窗口	φ100mm
腔体开启方式	前开门式	气体流量控制器	1路200sccm Ar
真空泵	配有一套分子泵系统，抽速600L/S	膜厚仪	石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10 Å
溅射电源	直流电源1台，500W，适用于制备金属膜 射频电源1台，500W，适用于非金属镀膜	操作方式	一体机电脑操作
整机尺寸	1090mm X 900mm X 1250mm	整机重量	350kg

○免责声明

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