产品详情
查看大图

  • 产品名称：单靶直流磁控溅射镀膜仪

  • 产品型号：TN-MSP300S-DC
  • 产品厂商：泰诺
  • 产品文档：
你添加了1件商品 查看购物车
简单介绍：
单靶直流磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的真空镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。该单靶直流磁控溅射镀膜仪 1500W用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜等
详情介绍：
TN-MSP300S-DC 单靶直流磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸3英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选择；所配电源为大功率直流电源，可用于高能量的金属溅射镀膜，根据实验需求也可以选配其他规格的直流或者射频电源来实现各种材料的镀膜操作。

镀膜仪具有一路高精度质量流量计，客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路，以满足复杂的气体环境构建需求；仪器标配先进的涡轮分子泵组，极限真空可达10E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制，可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品，大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制，在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能，可以进一步提高您的实验效率。

用途：用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。


名称
TN-MSP300S-DC
型号
单靶直流磁控溅射镀膜仪
特点
  • 自主研发、高性价比
  • 标准尺寸磁控溅射头，1英寸2英寸3英寸可选
  • 大功率直流电源，高能量金属溅射镀膜
  • 两路高精度质量流量计
  • 涡轮分子泵组，极限真空可达10E-5Pa
  • 一体机 电脑智能编程控制
参数
  1. 1、样品台：尺寸φ150mm；  加热温度 maxtemp：500℃；控温精度：±1℃；转速：1-20rpm可调
  2. 2、磁控溅射头：2” ×1 （1”,2”,3”可选）10L/min流速的循环水冷 
  3. 3、真空腔体：尺寸：φ300mm × 340mm 材料：不锈钢、上顶开式， 观察窗口：φ100mm
  4. 4、质量流量计：1路；量程1200SCCM（可根据客户需要定制多路气路）
  5. 5、真空系统：配有一套分子泵系统，抽速600L/S
  6. 6、真空测量：复合真空计
  7. 7、膜厚仪 石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10 Å
  8. 8、溅射电源：直流电源 ×1；max输出功率500W~1500W 可选
规格
尺寸：1090mm × 900mm × 1250mm；重量：350kg ；电压：AC220V,50Hz；功率：6KW


免责声明：本站产品介绍内容（包括产品图片、产品描述、技术参数等），仅供参考。泰诺公司产品在不断更新，网站内容可能由于更新不及时，或许导致所述内容与实际情况存在一定的差异，请与本公司销售人员联系确认。本站提供的信息不构成任何要约或承诺，泰诺公司会不定期完善和修改网站任何信息，恕不另行通知。