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双靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选购；所配电源为300W射频电源加500W直流电源，直流电源可用于金属薄膜的制备，射频电源可用于非金属膜的制备，两个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。若客户有其他镀膜需要，可以定制直流电源和脉冲电源，各型电源均有300W到1000W多种规格可选。
镀膜仪具有两路高精度质量流量计，客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路，以满足复杂的气体环境构建需求；仪器标配先进的涡轮分子泵组，极限真空可达10E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。
另外本型号配置配有两个高精度膜厚仪，能够满足镀膜过程中膜厚检测需要，若客户有需要安装多个膜厚仪的需要也可以和我公司技术人员进行定制。
本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制，在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能，可以进一步提高您的实验效率。
双靶磁控溅射镀膜仪用途：
该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。
双靶磁控溅射镀膜仪技术参数：
双靶磁控溅射镀膜仪（双膜厚仪）
样品台
尺寸
φ185mm
控温精度
±1℃
加热温度
*高500℃
转速
1-20rpm可调
磁控溅射头
数量
2” ×2 （1”,2”可选）
水冷机规格
10L/min流速的循环水冷机
冷却方式
水冷
真空腔体
腔体尺寸
φ300mm × 300mm
观察窗口
φ100mm
腔体材料
不锈钢
开启方式
上顶开式
质量流量计
2路；量程100sccm；100sccm（可根据客户需要定制多路气路）
真空系统
产品型号
TN-GZK103-A
抽气接口
KF40
分子泵
TN-600
排气接口
KF16
前极泵
旋片泵
真空测量
复合真空计
极限真空
1.0E-5Pa
供电电源
AC;220V 50/60Hz
抽气速率
分子泵：600L/S 旋片泵：1.1L/S 综合抽气性能：20分钟真空度可达： 1.0E-3Pa
电源配置
数量
射频电源x2
*大输出功率
射频电源300W
其他
供电电压
AC220V,50Hz
整机尺寸
600mm × 650mm × 1280mm
整机功率
2.5KW
整机重量
300kg
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