产品名称：双靶直流磁控溅射镀膜仪

镀膜仪具有一路高精度质量流量计，客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路，以满足复杂的气体环境构建需求；仪器标配先进的涡轮分子泵组，极限真空可达10E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制，可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品，大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制，在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能，可以进一步提高您的实验效率。

双靶直流磁控溅射镀膜仪用途：

 该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。

双靶直流磁控溅射镀膜仪技术参数：

双靶直流磁控溅射镀膜仪
样品台	尺寸	φ150mm	控温精度	±1℃
	加热温度	zui高500℃	转速	1-20rpm可调
磁控溅射头	数量	2” ×2 （1”,2”可选）	水冷机规格	10L/min流速的循环水冷机
	冷却方式	水冷
真空腔体	腔体尺寸	φ300mm × 340mm	观察窗口	φ100mm
	腔体材料	不锈钢	开启方式	上顶开式
质量流量计	1路；量程200sccm Ar（可根据客户需要定制多路气路）
真空系统	产品型号	TN-GZK103-A	抽气接口	KF40
	分子泵	TN-600	排气接口	KF16
	前极泵	GHD-031B	真空测量	复合真空计
	极限真空	10E-5Pa	供电电源	AC;220V 50/60Hz
	抽气速率	分子泵：600L/S  旋片泵：1.1L/S  综合抽气性能：20分钟真空度可达： 1.0E-3Pa
电源配置	数量	直流电源 ×2	zui大输出功率	直流电源500W-1000W
其他	供电电压	AC220V,50Hz	整机尺寸	1090mm × 900mm × 1250mm
	整机功率	6KW	整机重量	350kg

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