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  • 产品名称:双靶直流磁控溅射镀膜仪

  • 产品型号:TN-MSP300S-2DC
  • 产品厂商:泰诺
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简单介绍:
双靶直流磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比真空PVD镀膜设备,双靶直流磁控溅射镀膜仪设置两个500W直流电源,用于金属薄膜的制备,两个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。
详情介绍:
TN-MSP300S-2DC双靶直流磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择,客户可以根据所镀基板的大小自主选购;所配电源为两个直流电源,直流电源可用于金属薄膜的制备,两个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。

镀膜仪具有一路高精度质量流量计,客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路,以满足复杂的气体环境构建需求;仪器标配先进的涡轮分子泵组,极限真空可达10E-5Pa,同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制,可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品,大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制,在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能,可以进一步提高您的实验效率。

双靶直流磁控溅射镀膜仪用途:

 该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该双靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。

双靶直流磁控溅射镀膜仪技术参数:

双靶直流磁控溅射镀膜仪

样品台

尺寸

φ150mm

控温精度

±1

加热温度

zui高500

转速

1-20rpm可调

磁控溅射头

数量

2” ×2 1”,2”可选)

水冷机规格

10L/min流速的循环水冷机

冷却方式

水冷

真空腔体

腔体尺寸

φ300mm × 340mm

观察窗口

φ100mm

腔体材料

不锈钢

开启方式

上顶开式

质量流量计

1路;量程200sccm Ar(可根据客户需要定制多路气路)

真空系统

产品型号

TN-GZK103-A

抽气接口

KF40

分子泵

TN-600

排气接口

KF16

前极泵

GHD-031B

真空测量

复合真空计

极限真空

10E-5Pa

供电电源

AC;220V 50/60Hz

抽气速率

分子泵:600L/S  旋片泵:1.1L/S  综合抽气性能:20分钟真空度可达: 1.0E-3Pa

电源配置

数量

直流电源 ×2

zui大输出功率

直流电源500W-1000W

其他

供电电压

AC220V,50Hz

整机尺寸

1090mm × 900mm × 1250mm

整机功率

6KW

整机重量

350kg

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