带偏压双靶磁控镀膜仪郑州泰诺薄膜材料有限公司

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产品名称：带偏压双靶磁控镀膜仪
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产品厂商：其它品牌
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简单介绍：

带偏压双靶磁控镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜，该带偏压双靶磁控镀膜仪添加偏压电场，增强离子的能量，提高成膜质量和薄膜的附着力

详情介绍：

带偏压双靶磁控镀膜仪

我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。除此之外本设备还配有偏压电源，能够在靶材和样品台间添加偏压电场，增强离子的能量，提高成膜质量和薄膜的附着力。整机均采用触控屏控制，内置一键式镀膜程序，操作简单易上手，是一款实验室制备薄膜的理想设备。

名称	带偏压双靶磁控镀膜仪
特点	镀膜速率高，样品温升低，典型的高速低温溅射偏压电源增强离子的能量，提高成膜质量和薄膜的附着力触控屏控制，内置一键式镀膜程序，操作简单易上手
技术参数	供电电压： AC220V，50Hz 整机功率：3KW 极限真空度：10-6torr 载样台参数：尺寸 φ140mm；加热温度 *高500℃；控温精度 ±1℃；转速 1-20rpm可调磁控溅射头：2个2”磁控溅射头；水冷（水冷机规格 10L/min流速的循环水冷机）真空腔体：尺寸 φ300mm X 300mm H，不锈钢观察窗口：φ100mm 开启方式：上顶开式，便于更换靶材气体流量控制器： 2路分别通Ar，N2；量程均为0-100sccm 真空泵：配有一套分子泵系统，抽速600L/S 膜厚仪：石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10 Å 溅射电源：直流电源一台，1000W，适用于制备金属膜射频电源一台，500W，适用于非金属镀膜操作方式面板按钮操作
规格	尺寸：1400mm X 750mm X 1300mm；重量：300kg

产品名称：带偏压双靶磁控镀膜仪