0371-5536 5392 0371-5519 9322
TN-MSP210S-RFDC小型双靶磁控镀膜仪。设备经过小型化设计，在保留高真空不锈钢腔体的同时，精简了其他机构，将设备外形限制在了实验室级别，大大减少了安装场地需求。设备配有一个直流电源一个射频电源，直流靶可用于金属及其他导电材料的溅射，射频电源可用于各种非金属和金属氧化物等的溅射。设备真空系统采用全进口真空泵，抽气速度快，极限真空度高，真空性能优异。本设备结构紧凑功能完善便于使用，非常适合用于各类镀膜试验。
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桌面型双靶磁控镀膜仪 |
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样品台 |
尺寸 |
φ150mm |
加热 |
*高500℃ |
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转速 |
0-20可调 |
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磁控溅射靶 |
数量 |
2” x2 双靶共用一挡板 |
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真空腔体 |
腔体尺寸 |
φ210mm X 230mm |
观察窗口 |
φ40mm |
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腔体材料 |
SS304不锈钢 |
开启方式 |
前开门式 |
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真空系统 |
机械泵 |
进口无油隔膜泵 |
抽气接口 |
KF16 |
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分子泵 |
进口分子泵 |
抽气接口 |
KF40 |
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真空测量 |
电阻规+电离规 |
排气接口 |
KF16 |
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极限真空 |
1.0E-3Pa |
供电电源 |
AC 220V 50/60Hz |
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抽气速率 |
无油泵 0.49L/s 分子泵：40L/S |
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电源配置 |
数量 |
直流电源 x1 射频电源x1 |
*大输出功率 |
直流电源500W 射频电源500W |
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其他 |
供电电压 |
AC220V,50Hz |
整机尺寸 |
550mm X 550mm X1100mm |
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整机功率 |
2kW |
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