产品名称：MPCVD单晶钻石沉积设备培育钻石

适合的应用:

化学气相沉积法制备高品质单晶钻石

化学气相沉积法制备高品质多晶钻石自支撑厚膜

化学气相沉积法制备高品质多晶钻石薄膜

化学气相沉积法制备石墨烯、碳纳米管、富勒烯和钻石膜等各种碳纳米薄膜

产品特点： 

本产品为不锈钢腔体式6kw微波等离子体设备，功率密度高；

水冷式基片台和水冷式金属反映腔，保证系统能长时间稳定工作；

基片温度以微波等离子体自加热方式达到；

真空测量仪表采用全量程真空计，可**测量本底真空和工作气体压强；

真空泵及阀门采用涡轮分子泵(极限真空为1×10-5Pa)和旋片式机械真空泵(极限真空为1Pa)，系统可自动控制沉积气压；

配备冷却水循环系统，确保装置高功率下可长时间**稳定运行；

系统带15寸触摸屏，PLC自动控制，可设置温度或气压恒定，可保存复用多达20套工艺文件；

全自动工艺控制模块，可以稳定可靠地制备高品质钻石薄膜和晶体

技术指标与特性：

项目名称	规格	配置
主控单元		PLC 自动程控
微波源	6kw  2.45Ghz	微波电源
		微波发生器
波导	6kw	三销钉
模式转换器	6kw
谐振腔体	6kw	柱形水冷腔体
基台	φ70mm	电动升降
钻石生长基本参数		7x7mm   37片 8x8mm   29片 9x9mm   21片 10x10mm  13片
MFC（质子流量计）	5路	Ch4  0-500sccm H2   0-500sccm N2  0-500sccm Ar   0-500sccm O2   0-500sccm
测温元件		高精度红外测温仪
真空测量		高精度真空计
分子泵		默认无/可选
氢气纯化		9N级
水循环		3P水冷机