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磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。
设备配有变频振动的震动型样品台，可以将放置在上面的粉末或者颗粒不规则的翻动，以确保在镀膜过程中所有的颗粒的表面能包覆上镀层，避免镀膜不匀的情况，是专为颗粒型样品所设计的PVD设备。
三靶磁控溅射镀膜仪技术参数：
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项目 |
明细 |
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供电电压 |
AC220V，50Hz |
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整机功率 |
6KW |
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极限真空度 |
5x10-4Pa |
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载样台参数 |
尺寸 |
φ150mm |
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振动方式 |
变频电机驱动齿轮 |
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磁控溅射头参数 |
数量 |
斜置3个2”磁控溅射头 与垂直方向夹角15° |
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冷却方式 |
水冷，所需流速10L/min |
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水冷机规格 |
10L/min流速的循环水冷机 |
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真空腔体 |
腔体尺寸 |
φ300mm X 340mm H |
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腔体材料 |
不锈钢 |
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观察窗口 |
φ100mm |
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开启方式 |
上顶开式，便于更换靶材 |
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气体流量控制器 |
1路200sccm Ar； |
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真空泵 |
配有一套分子泵系统，抽速600L/S |
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膜厚仪 |
石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10 Å |
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溅射电源 |
直流电源2台，500W，适用于制备金属膜 射频电源1台，500W，适用于非金属镀膜 |
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操作方式 |
一体机电脑操作 |
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整机尺寸 |
1090mm X 900mm X 1250mm |
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整机重量 |
350kg |
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