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三靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的高性价比磁控溅镀设备，具有标准化、模块化、定制化的特点。该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介电薄膜、光学薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等，三种靶材可以满足多层或多层涂层的需要。与同类设备相比，三靶磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛，而且具有体积小、操作方便等优点。它是实验室制备材料薄膜的理想设备。
技术参数：
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三靶磁控溅射镀膜机（直流电源+射频电源） |
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样品台 |
溅射模式 |
溅射方向向上，样品台位于溅射靶上方； 中心顶部设置样品架，带一个挡板； |
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样品台 |
φ150mm |
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控制精度 |
±1℃ |
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加热范围 |
室温～500℃ |
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可调转速 |
1-20rpm可调 |
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靶基距离可调 |
靶材和衬底之间的距离可以电动调节 |
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磁控靶枪 |
靶面 |
圆形平面靶 |
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溅射真空 |
10Pa～0.2Pa |
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靶材直径 |
50～50.8mm |
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靶材厚度 |
2～5mm 注：如果靶是磁性材料（如Fe、Co、Ni），厚度不能超过1.5mm，需要强磁溅射靶枪，需要额外采购。 |
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绝缘电压 |
>2000V |
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数量 |
2 英寸*3；每个溅射靶枪上都有挡板 |
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电缆规格 |
SL-16 |
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靶头温度 |
≤65℃ |
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真空腔体 |
内壁处理
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电解抛光 |
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腔体尺寸 |
φ300mm × 350mm |
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腔体材料 |
304 不锈钢 |
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观察窗口 |
石英窗，直径φ100mm，带挡板 |
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密封方法 |
氟橡胶密封 |
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打开方式 |
顶部开口，气缸辅助支架 |
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气体控制系统 |
流量控制 |
三通道质量流量计：
氧气：范围0～100SCCM 氩气：范围0～200SCCM 氮气：范围0～500SCCM （注意：为了实现更高的无氧环境，必须用高纯度惰性气体清洁真空室至少3次。） |
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气体类型 |
氩气、氮气、氧气和其他惰性气体 |
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控制阀类型 |
电磁阀 |
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控制阀静态 |
常闭 |
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测量线性度 |
±1.5% F.S |
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测量重复性 |
±0.2% F.S |
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测量响应时间 |
≤8 seconds（T95） |
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工作压力范围 |
0.3MPa |
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阀体压力 |
3MPa |
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工作温度 |
（5～45）℃ |
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阀体材料 |
不锈钢 316L |
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阀体泄漏率 |
1×10-8Pa.m3/s |
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管道接头 |
1/4″压缩接头 |
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输入和输出信号 |
0～5V |
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电源 |
±15V（±5%）（＋15V 50mA, －15V 200mA） |
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外形尺寸(mm) |
130 (宽) × 102 (高) × 28 (厚) |
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通信接口Interface |
RS485 MODBUS 协议 |
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直流电源 |
电源 |
500W |
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输出电压 |
0～600V |
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*大输出电流 |
1A |
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正时长度 |
65000 S |
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开始时间 |
1～10 S |
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数量 |
2台 |
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射频电源 |
电源 |
500W |
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功率输出范围 |
0W-500W, 带自动匹配 |
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*大反射功率 |
100W |
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RF频率 |
13.56MHz+/-0.005% 稳定性 |
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电源稳定性 |
≤5W |
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谐波分量 |
小于 -50dbc |
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