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TN-MSP300S-3RF三靶射频磁控溅射镀膜仪
我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有标准化、模块化、可定制化的特点。磁控靶有1英寸2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选购；所配电源为三台射频电源，射频电源可用于非金属薄膜的制备，三个靶可以满足多层或者多次镀膜的需要。若客户有其他镀膜需要，可以定制直流电源和脉冲电源，各型电源均有500W到1000W多种规格可选。
镀膜仪具有一路高精度质量流量计，客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路，以满足复杂的气体环境构建需求；仪器标配先进的涡轮分子泵组，极限真空可达10E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制，可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品，大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制，在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能，可以进一步提高您的实验效率。
三靶射频磁控溅射镀膜仪用途：
该设备可用于制备单层或多层陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。
三靶射频磁控溅射镀膜仪技术参数：
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三靶射频磁控溅射镀膜仪 |
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样品台 |
尺寸 |
φ150mm |
控温精度 |
±1℃ |
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加热温度 |
zui高500℃ |
转速 |
1-20rpm可调 |
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磁控溅射头 |
数量 |
2” ×3 （1”,2”可选） |
水冷机规格 |
10L/min流速的循环水冷机 |
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冷却方式 |
水冷 |
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真空腔体 |
腔体尺寸 |
φ300mm × 340mm |
观察窗口 |
φ100mm |
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腔体材料 |
不锈钢 |
开启方式 |
上顶开式 |
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质量流量计 |
1路；量程200sccm Ar（可根据客户需要定制多路气路） |
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真空系统 |
产品型号 |
TN-GZK103-A |
抽气接口 |
KF40 |
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分子泵 |
TN-600 |
排气接口 |
KF16 |
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前极泵 |
GHD-031B |
真空测量 |
复合真空计 |
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极限真空 |
1.0E-5Pa |
供电电源 |
AC;220V 50/60Hz |
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抽气速率 |
分子泵：150L/S 旋片泵：1.1L/S 综合抽气性能：20分钟真空度可达： 1.0E-3Pa |
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电源配置 |
数量 |
射频电源 ×3 |
zui大输出功率 |
射频电源500-1000W 可选 |
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其他 |
供电电压 |
AC220V,50Hz |
整机尺寸 |
1090mm × 900mm × 1250mm |
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整机功率 |
6KW |
整机重量 |
350kg |
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