0371-5536 5392 0371-5519 9322
-
等离子加强化学沉积PECV... 等离子加强化学沉积PECVD镀膜仪能够利用高能量等离子体促进反应过程，有效提升反应速度，降低反应温度，等离子加强化学沉积...
-
卷对卷式PECVD 卷对卷式PECVD是等离子增强型化学气相沉积设备，该卷对卷式PECVD适合用于石墨烯在卷材上的连续生长
-
单温区旋转PECVD石墨... 单温区旋转PECVD石墨烯制备广泛用于石墨烯制备，颗粒包覆等科学实验上，该单温区旋转PECVD石墨烯制备适合颗粒型样品...
-
1200℃单温区3路质量供... 1200℃单温区3路质量供气高真空CVD系统由单温区管式炉、三路质量流量计和高真空分子泵租组成。该1200℃单温区3路质...
-
1200℃单温区3路质量供... 1200℃单温区3路质量供气低真空CVD系统由单温区管式炉、三路浮子流量计和双极旋片真空泵组成。该1200℃单温区3路质...
-
1200℃单温区3路浮子供... 1200℃单温区3路浮子供气高真空CVD系统TN-O1200-50IT-3F-HV 由单温区管式炉、三路浮子流量计和高真...
-
1200℃单温区3路浮子供... 1200℃单温区3路浮子供气低真空CVD系统由单温区管式炉、三路浮子流量计和双极旋片真空泵组成。1200℃单温区3路浮子...
-
三温区三通道CVD混洗系统 TN-OTF-1200X-80-3F是一款CE认证的三温区管式炉CVD系统，其管径为80mm，采用机械泵，它是由管式炉，...