等离子加强化学沉积PECVD镀膜仪 TN-PECVD-450 郑州泰诺薄膜材料有限公司

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产品名称：等离子加强化学沉积PECVD镀膜仪
产品型号：TN-PECVD-450
产品厂商：泰诺
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简单介绍：

等离子加强化学沉积PECVD镀膜仪能够利用高能量等离子体促进反应过程，有效提升反应速度，降低反应温度，等离子加强化学沉积PECVD镀膜仪适用于制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件

详情介绍：

TN-PECVD-450化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术，能够利用高能量等离子体促进反应过程，有效提升反应速度，降低反应温度。适用于在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜质量好，针孔较少，不易龟裂，适用于制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件，可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。

名称	PECVD镀膜仪
型号	TN-PECVD-450
特点	能够利用高能量等离子体促进反应过程，有效提升反应速度，降低反应温度适用于在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积成膜质量好，针孔较少，不易龟裂，适用于制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件
技术参数	真空腔体前开门式，φ300mm X 300mm 不锈钢材质观察窗：φ100mm 带挡板真空泵组前级泵：旋片泵抽速1.1L/s，次级泵：涡轮分子泵抽速600L/s 极限真空度 10-6Pa，三十分钟内可达到 10-4Pa 沉积真空 0.133~133Pa，可根据工艺调整射频电源 13.56MHz，500W，自动匹配流量控制质量流量计，默认 Ar气 0~200sccm
规格	整机尺寸 1100mm x 800mm x1100mm

产品名称：等离子加强化学沉积PECVD镀膜仪