产品详情
  • 产品名称:多源高真空蒸发镀膜仪

  • 产品型号:
  • 产品厂商:泰诺
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简单介绍:
多源高真空蒸发镀膜仪两组钨舟蒸发源*高可达3000℃,可实现多种难熔金属的蒸镀,该多源高真空蒸发镀膜仪分采用触控屏和按钮面板相结合的设计,真空系统、样品台等辅助功能通过触控屏一键操作。
详情介绍:

本设备为多源高真空蒸发镀膜仪,设备采用前开门式真空腔体设计,腔体空间大,可拓展性强,能够满足多样式大尺寸样品的蒸发镀膜。腔体内配有上置样品台,可根据用户样品样式选取夹持或卡位式样品安装部件。样品台可旋转、加热及升降,所有操作均通过触控屏集成控制。设备的真空泵组为两级式真空系统,由双极旋片真空泵和涡轮分子泵组,可为真空镀膜试验提供清洁无油的高真空的环境;真空系统内含有完善的气动阀系统,用户可通过触控屏进行一键式操作实现抽取真空、不停机取放样、完全停机等操作。

本设备的蒸发源共两组,采取钨舟蒸发源,水冷式铜电极,可*大支持300A的大电流,加热温度*高可达3000℃,可实现多种难熔金属的蒸镀。本设备采用一体化设计,腔体和电控部分左右分置,实现了水电分离,有力的保证了用户的安全。电控部分采用触控屏和按钮面板相结合的设计,真空系统、样品台等辅助功能通过触控屏一键操作,通电蒸发、膜厚控制等通过面板独立操作,在尽可能方便用户的同时规避了误操作的可能。该设备设计完善性能优越,是实验室高精度蒸发镀膜试验的必备之选。


名称
多源高真空蒸发镀膜仪
特点


  • 蒸发源共两组,
  • 采取钨舟蒸发源,加热温度*高可达3000℃,可实现多种难熔金属的蒸镀
  • 腔体和电控部分左右分置,实现了水电分离
  • 真空系统、样品台等辅助功能通过触控屏一键操作
  • 通电蒸发、膜厚控制等通过面板独立操作


术参数
  1. 样品台 *大支持φ150mm样品 高度 上下70mm可调
  2. 蒸发源: 钨舟x2 
  3. 真空腔体: 腔体材料 304不锈钢,尺寸 φ300x400mm 观察窗 前置φ100mm含遮光片,开启方式 前开门式
  4. 膜厚控制晶振式膜厚测量仪,可选多通道膜厚控制仪
  5. 真空系统: 前级泵 双极旋片 抽气接口 KF16
  6. 次级泵 涡轮分子泵 抽气接口 CF160
  7. 真空测量 电阻+电离 复合真空规
  8.                  排气速率 机械泵1.1L/s, 分子泵 600L/s; 抽气速率 旋片泵:1.1L/S 
  9. 极限真空 1.0E-5Pa
  10.   供电电源 AC 220V 50/60Hz
  11. 流量计一路质量流量计 500sccm Ar气
  12. 控制系统: PLC自动控制
  13. 操作界面:触控屏+操作面板
规格
供电电压 AC380V,50Hz
整机功率 5kW 整机重量 350kg
整机尺寸 1000mm X 800mm X 1500mm