产品名称：双靶磁控溅射及蒸发复合镀膜仪

TN-MS500S-2TA1S双靶磁控溅射及蒸发复合镀膜仪主要由不锈钢真空腔体、磁控溅射靶，蒸发镀膜装置，放置样品的样品台，真空泵机组、真空测量规管，进气系统和控制系统组成。

设备主机采用触摸显示屏操作，温控表检测。其数字化参数界面和自动化操作方式为用户提供了优良的研发平台。真空腔体采用304不锈钢制成，配有观察窗口及挡板。造型美观做工精细，真空性能优异。主要密封法兰采用 CF系列高真空密封法兰。真空腔体各接口均采用橡胶密封圈密封，真空性能优良，能有效保证镀膜质量。真空室采用下置靶设计，样品台具有加热和旋转但是功能，可以使镀膜效果更加均匀。设备真空获得系统采用两级真空泵组，前级泵为大抽速机械泵，有效缩从常压至低真空的时间，主泵为涡轮分子泵，抽速高，真空获取速度更快。 整体真空获得系统干净快速。

特点

1.磁控溅射 热蒸发 多功能切换镀膜

2.靶材下置 样品台旋转

3.两级真空分子泵，抽速高真空获取速度快

4.触屏数据化操作界面

应用领域

可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。尤其适合实验室SEM（扫描电镜）的样品制备。

名称	磁控溅射蒸发二合一真空PVD镀膜仪
型号	TN-MS500S-2TA1S
样品台	尺寸 150mm 加热温度 ≤500℃ 旋转速度 1-20r/min 控温精度 ±1℃
磁控溅射头	数量 2英寸 x2 冷却方式 水冷
蒸发系统	蒸发源 钨丝篮 *高温度 1500℃ 热电偶 S型热电偶
真空腔体	腔体尺寸 φ300mm X 300mm 观察窗口 φ100mm 腔体材料 304不锈钢 开启方式 前开门式
电源配置	直流电源数量 1台 输出功率 ≤1000W  输出电压 ≤600W 响应时间 ＜5ms  射频电源数量 1台 输出功率 ≤1000W  功率稳定度 ≤5W 射频功率 13.56MHz 射频稳定度 ±0.005%
膜厚监控系统	膜厚仪测量分辨率 ±0.03Hz 测量精度 ±0.5% 测量上限 50000 测量速度 100~1000ms
水冷系统	水箱容积 9L 流量 10L/min
供气系统	质量流量计 量程 200sccm， 气体类型 Ar气
其他	供电电压 AC220V,50Hz 整机尺寸 1400x750x1300mm 整机功率 4kw（主机+真空泵） 整机重量 295kg