产品名称：磁控溅射蒸发二合一真空PVD镀膜仪

TN-MSE300S-DC磁控溅射蒸发二合一真空PVD镀膜仪将磁控溅射技术和真空蒸发技术结合在同一镀膜设备里，既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜，同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其汽化再沉积在基材上成膜。增加了设备的用途和灵活性。该设备应用于手机壳等塑料表面金属化，应用于不导电膜和电磁屏蔽膜沉积。

特点

等离子体处理装置，高效磁控溅射阴极和电阻蒸发装置等，设备沉积速率快，镀层附着力好；

该机实现镀膜工艺全自动化控制，装载量大，工作可靠，合格率高，生产成本低，绿色环保。

应用领域

该设备主要广泛应用于电脑壳、手机壳、家用电器等行业，可镀制金属膜、合金膜、复合膜层、透明（半透明）膜、不导电膜、电磁屏蔽膜等。

名称	磁控溅射蒸发二合一真空PVD镀膜仪
型号	TN-MSE300S-DC
样品台	样品台尺寸φ185mm,控温精度±1℃,转速1-20rpm可调 溅射电流2~20mA,溅射电压1000V 蒸发源钨丝篮,*高温度1700℃ 程控控温 可设置30段升降温程序，控温精度为+/-1℃
真空腔体	腔体尺寸φ300mm × 300mm,观察窗口φ100mm 腔体材料不锈钢,开启方式上顶开式
膜厚仪	电源DC   5V（±10%），*大电流400mA 频率分辨率±0.03Hz 膜厚分辨率0.0136Å（铝） 膜厚准确度±0.5%，取决于过程条件，特别是传感器的位置，材料应力，温度和密度 测量速度100ms-1s/次，可设置 测量范围500000Å（铝） 标准传感器晶体6MHz
质量流量计	2路；量程100sccm；100sccm（可根据客户需要定制多路气路）
真空系统	产品型号TN-GZK103-A,抽气接口KF40 分子泵TN-600,排气接口KF16 前极泵：旋片泵 真空测量复合真空计 极限真空1.0E-5Pa 供电电源AC;220V 50/60Hz 抽气速率分子泵：600L/S  旋片泵：1.1L/S  综合抽气性能：20分钟真空度可达： 1.0E-3Pa
可选配件	金、铟、银、白金等各种靶材
质保	一年保修，终身技术支持。