产品名称：碳镀钨蒸等离子溅射复合镀膜仪

○ 产品介绍

TN-PEC250G-HV碳镀钨蒸等离子溅射复合镀膜仪可进行真空蒸碳、真空热蒸发和等离子溅射，它也可以在高纯氩气的保护之下进行多种离子处理。通过更换功能套件，设备可以在多种功能间快速切换，非常适合实验室制作SEM样品使用。本仪器装有机械泵和分子泵，能够满足多种真空度要求，尤其能够实现高真空，能够有效提高镀膜质量。

○ 适用范围

实验室镀膜使用。

○ 技术参数

真空腔体	高纯石英，钟罩状，φ250x340mm
蒸发腔体	高纯石英，镀罩状，带侧面开孔，尺寸φ88x150mm
等离子溅射腔体	高纯石英，镀罩状，带侧面开孔，尺寸φ88x150mm
	等离子溅射套件   溅射电压 1600V *大电流 50mA 靶面尺寸 2英寸 工作真空 10Pa~20Pa 工作气氛 需通入高纯氩气
	热蒸发镀膜套件  蒸发源数量 2个 *大电流 100A 工作真空 10^-3Pa 工作气氛 不通入任何气体 样品台 直径φ60mm，可旋转
	碳蒸发套件  蒸发方式 碳棒蒸发 *大电流 160A 工作真空 10^-3Pa 工作气氛 不通入任何气体
真空系统	产品型号 TN-GZK103-A 分子泵 涡轮分子泵 前极泵 双极旋片泵 抽气速率 分子泵：600L/S 综合抽气性能：30分钟真空度可达：5×10E-3Pa 旋片泵：1.1L/S 极限真空 5×10E-4Pa 抽气接口 KF40 排气接口 KF16 真空测量 复合真空计
进气系统	配有手动微调阀，接口为1/4英寸卡套接头
供电要求	AC 220V 50Hz

○免责声明

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