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本仪器是一种具有两个蒸发源的高真空蒸发镀膜仪，钨丝篮（或钨舟）用作蒸发源，并且样品台和蒸发源之间的距离是可调的。 该仪器可以稳定地蒸发金属和某些有机物。 采用高真空不锈钢腔体，密封性能好，真空性能好。 该腔室配有观察窗，因此可以看到涂层过程。 采用分子泵系统的**真空10E-4Pa，可有效提高涂层质量，并能满足大多数蒸发涂层实验所需的真空环境。
高真空热蒸发镀膜仪用途：
高真空双源热蒸发镀膜仪适用于蒸发涂覆大多数金属和某些有机材料薄膜。
高真空热蒸发镀膜仪技术参数：
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产品名称 |
高真空双源热蒸发镀膜仪 |
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产品型号 |
TN-EVV195-II-HH-SS |
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样品台 |
位 置 |
顶部设置 |
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外形尺寸 |
直径φ65mm |
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转 速 |
0-20 rpm |
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间 距 |
样品架和蒸发源之间的距离可调 |
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可调温度 |
≦500℃ |
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热蒸发源 |
钨丝篮×2个，钨舟×2个 |
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蒸发电源 |
每个蒸发源配一组独立电源；双个蒸发源可同时共蒸 |
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真空腔体 |
腔体尺寸 |
直径φ195mm×H210mm |
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观察窗口 |
直径φ100mm |
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腔体材质 |
304不锈钢 |
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开启方式 |
前开门式 |
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膜厚测量 |
晶体膜厚测量仪（也可选膜厚控制仪） |
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真空系统 |
前级泵 |
双极旋片泵，气体抽速1.1L/S |
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次级泵 |
涡轮分子泵,气体抽速600L/S |
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真空测量 |
复合真空计(电离规+电阻规) |
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系统真空 |
5×10-4Pa |
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控制系统 |
CYKY自研专业级控制器 |
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其他参数 |
供电电源 |
AC380V,50Hz |
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整机尺寸 |
600mm×650mm×1500mm |
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整机功率 |
7KW |
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整机重量 |
260kg |
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