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该设备以电子束蒸发方式镀膜设备，主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜，微纳器件微加工，电镜样品预处理等，尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜.
电子束蒸发镀膜仪技术参数：
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产品名称 |
电子束蒸发镀膜仪 |
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产品型号 |
CY-X-EIB500 |
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使用条件 |
环境温度5～40℃ |
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电源 |
三相380V |
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电压 |
220V 50HZ |
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功率 |
<20千瓦 |
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水压 |
<2.5bar |
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镀层监控 |
采用SQM160膜厚仪进行监控，涂层厚度不均匀度小于6%。 |
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加热灯 |
4只卤素加热灯用于除气，1个氖灯用于照明 |
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电极接口 |
9、带2路金属蒸发电极接口，备用 |
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水冷系统 |
水压监测 |
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观察窗 |
直径100mm，带X光滤光玻璃 |
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控制系统 |
触屏系统 |
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真空室尺寸 |
蒸发室尺寸：Φ500*H500mm |
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电子枪 |
新型电子枪，6孔坩埚 |
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样品转盘 |
样品尺寸：<150mm，样品台可旋转，样品台表面与电子枪表面距离上下调节，调节距离为200mm-250mm，样品台可加热，加热温度<500℃。 |
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系统真空度 |
A、极限真空：烘烤12～24小时，连续抽气，真空小于5x10-5Pa B、抽气速率：从大气开始， 40 分钟内真空 < 5x10-4Pa C、系统泄漏率：关机12小时后，测量真空室真空度<10Pa |
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真空机组 |
FB1200分子泵+VRD-16前级泵+旁抽阀+闸板阀+切断阀+复合真空计+镀膜监测真空计接口（备用） |
