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一、设备性能：
镀膜设备以金属/有机源蒸发为主体，适用于实验室制备金属单质、氧化物、介电质、半导体膜等，也可用作教学及生产线前期工艺试验等，整套设备操作简便，综合功能多，扩展空间大，适合及满足大专院校的教学与科研工作。
二、设备基本结构：
镀膜设备由真空室腔体，金属/有机源系统，样品台系统，真空泵机组，膜厚检测系统，设备机架，电控系统组成，真空室前门可与手套箱对接，采用一体化的设计方案，整套设备结构紧凑、布局简洁，避免实验设备外观凌乱的现象。
三、设备技术指标：
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1. 真空室腔体 |
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外形 |
上等 304 不锈钢 D 形真空室腔体 1 套，真空室内部尺寸 D400*480mm，前后双开门，后门采用铰链式方门，方便清洗真空腔体，真空室内部调试，维修以及取放物品，前门采用横拉方门，前后门各配 DN100 视窗 1 套； |
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底部 |
金属源接口 2 套，有机源接口 4 套， 复合分子泵接口 1 套，CF25照明接口 2 套以及膜厚探头接口 3 套； |
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顶部 |
样品台接口 1 套，电动挡板接口 1 套，高真空气动挡板阀接口 1 套 |
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左侧 |
超高真空气动挡板阀接口 1 套 |
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2. 金属/有机源系统 |
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金属蒸发源 |
金属蒸发源 2 套:水冷铜电极 2 组，兼容蒸发舟（钨、钼和钽舟）和螺旋丝，配气动挡板，1KW 直流恒流电源 1 台（数字显示），电流调整精度 1A（微调），功率满足常见的金属以及金属氧化物的蒸镀； |
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有机蒸发源 4 套 |
有机蒸发源 4 套:4CC（4ml） 石英舟，温控电源 2 台（温控表显示精度 0.1℃），温度区间：室温-500℃（控温精度±1℃），配气动挡板； |
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隔板 |
蒸发源相互独立，隔板分隔，避免交叉污 |
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3. 样品台系统 |
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基片旋转 |
转速 0～30 转／分连续可调 |
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基片升降 |
电动升降，衬底与蒸发源间距 200-300mm 通过触摸屏连续可调； |
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样品台 |
圆形托盘 1 套，一次可放置8片20×20mm 基片 |
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基片挡板 |
电动挡板 |
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4. 真空泵机组 |
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真空泵机组 |
1) 600L/s分子泵 1 台； 2) 8L/s双级泵 1 台 3) CF150 气动超高真空插板阀 1 台； 4) CF40 超高真空气动挡板阀 1 台； 5) KF16 高真空气动挡板阀 1 台； 6) KF40 高真空气动挡板阀 1 台； 7) KF40 真空电磁充气阀 1 台；
8) KF40 泵阀连接软管 2 套，KF40 三通 1 套； |
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5. 膜厚检测系统 |
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膜厚仪 |
三通道石英晶振膜厚监测仪 1 套； |
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膜厚探头 |
CF35 水冷膜厚探头 3 套 |
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6. 设备机架 |
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1) 40 碳钢方管焊接机架 1 套，表面喷塑； 2) 万向轮 4 件，移动调整； 3) M16 地脚 4 件，锁紧定位 |
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7. 电控系统 |
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金属源蒸发源气动挡板 |
2套 |
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金属蒸发源电源1kw |
1套 |
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有机源蒸发源气动挡板 |
4套 |
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有机蒸发源电源 |
2套（1带2） |
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烘烤照明电源 |
1 台 |
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样品台电动挡板 |
1套 |
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总控制电源 |
1套 |
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PLC 控制 |
配触摸屏 |
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8.手套箱 |
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腔体尺寸 |
L1200* W750* H900mm |
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手套 |
3只 |
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大过渡舱 |
内径360mm, 长 600mm |
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小过渡舱 |
内径150mm, 长300mm |
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9. 其他技术参数 |
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1) 缺相保护、误操作保护，联动互锁以及一键真空启停等功能； 2) 供电：～220V 两相供电系统（峰值 3KW）； 3) 供水：小型冷水机，冷却水温度 5℃～35℃，工作环境温度：10℃～40℃； 4) 供气：小型无油静音气泵，提供 0.2-0.3MPa 气压，驱动气动阀门； 5) 极限真空：优于 6×10-5Pa，大气至 6×10-4Pa 时间小于 35 分钟（充干燥氮气），关机 12 小时真空度≤10Pa。 |
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