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双室脉冲激光镀膜机用于生长光学晶体、铁电体、铁磁体、超导体及有机化合物薄膜材料，适合生长高熔点、多元素及含有气体元素的复杂层状超晶格薄膜材料，广泛应用于大专院校薄膜材料研究及制作。
设备组成：
系统主要由溅射真空室、旋转靶台、抗氧化基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成.
实验室脉冲激光沉积技术参数：
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产品名称 |
PLD脉冲激光沉积蒸发镀膜仪 |
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产品型号 |
TN-PLD-450 |
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主真空系统 |
球形结构，尺寸：直径450mm |
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载样系统 |
垂直圆柱形结构，尺寸：直径150×150mm |
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真空系统配置 |
主真空室 |
机械泵、分子泵、阀门 |
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装载样品系统 |
机械泵、分子泵（与主腔共用）、阀门 |
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极限压力 |
主真空系统 |
≤6*10-6Pa（烘烤、脱气后） |
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装载样品系统 |
≤6*10-3 Pa（烘烤、脱气后） |
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真空回收系统 |
主真空系统 |
20分钟可达5x10-3Pa（系统短暂暴露于大气中，充入干燥氮气即可开始抽气） |
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装载样品系统 |
20分钟可达5x10-3Pa（系统短暂暴露于大气中，充入干燥氮气即可开始抽气） |
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旋转靶台 |
靶材*大尺寸约60 or 25mm；可一次安装4块靶材，可实现公转换靶; 每块靶材可自转，转速5~60转/分 |
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基片加热台 |
样品尺寸 |
Ø. 51 |
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运动方式 |
基片可连续回转，转速5~60转/分 |
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加热温度 |
基片加热*高温度800Ｃ±1 C，可控可调 |
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气路系统 |
1 回路质量流量控制器，1 回路充气阀 |
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可选配件 |
激光装置 |
兼容相干201激光 |
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激光束扫描装置 |
2D扫描机械平台，进行二自由度扫描。 |
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计算机控制系统 |
控制内容包括普通转换靶、靶旋转、样品旋转、样品温度控制、激光束扫描等。 |
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设备占地面积 |
主机 |
1800 * 1800mm2 |
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电控柜 |
700 *700mm2(one) |
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