产品详情
查看大图

  • 产品名称：多弧离子镀膜仪

  • 产品型号：TN-MIOP500S-2TA
  • 产品厂商：泰诺
  • 产品文档：
你添加了1件商品 查看购物车
简单介绍：
多弧离子镀膜仪是利用气体放电或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时将蒸发物或反应物沉积在基片上。本多弧离子镀膜仪配有两个多弧靶，和行星式样品台可有效的提高镀膜效率。
详情介绍：

多弧离子镀膜仪 TN-MIOP500S-2TA本设备为多弧离子镀膜设备。多弧离子镀是利用气体放电或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发物或反应物沉积在基片上。离子镀把辉光放电现象、等离子体技术和真空蒸发三者有机结合起来，不仅能明显地改进了膜质量，而且还扩大了薄膜的应用范围。其具有蒸镀速率快，薄膜附着力强，绕射性好，膜材广泛等优点。十分适合镀硬质保护膜如TiN等。同时由于其通过控制气氛可以改变膜层颜色，且膜层与基板结合牢固，故也可用于制作多种颜色的装饰性膜

本设备配有两个多弧靶，分置于腔体两侧。配合行星式样品台可有效的提高镀膜效率，改善成效果;该镀膜仪还采用一体化设计，腔体和电控部分左右分置，实现了水电分离，有力的保证了用户的**。

名称
多弧离子镀膜仪
型号
TN-MIOP500S-2TA
特点
  • 离子镀把辉光放电现象、等离子体技术和真空蒸发三者有机结合起来，不仅能明显地改进了膜质量，而且还扩大了薄膜的应用范围。
  • 十分适合镀硬质保护膜如TiN等。同时由于其通过控制气氛可以改变膜层颜色，且膜层与基板结合牢固，故也可用于制作多种颜色的装饰性膜。
  • 一体化设计，腔体和电控部分左右分置，实现了水电分离
技术参数
  • 样品台 行星式样品台，外径305mm，四周六工位，工件可悬挂于各工位的支撑棒上，外周转速1~20rpm可调
  • 多弧离子靶：φ84mm X 2 
  • 真空腔体： 304不锈钢 ，φ300mm X 400mm， 观察窗口前置φ100mm含遮光片，前开门式
  • 膜厚控制 晶振式膜厚测量仪，可选多通道膜厚控制仪
  • 真空系统
  1.    前级泵 双极旋片泵 抽气接口 KF16； 次级泵 涡轮分子泵 抽气接口 CF160
  2.    真空测量： 电阻+电离复合真空规
  3.    排气速率： 机械泵1.1L/s， 分子泵 600L/s， 旋片泵：1.1L/S 
  4.    极限真空： 1.0E-5Pa
  5.    供电电源： AC 220V 50/60Hz
  • 控制系统 自动控制：触控屏+操作面板
规格
电压 AC380V,50Hz ；尺寸 1000mm X 800mm X 1500mm；功率 5kW 整机重量 350kg