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产品详情
简单介绍:
双靶等离子溅射镀膜仪(基础版)我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备,具有结构紧凑,简单易用。双靶等离子溅射镀膜仪(基础版)的溅射靶为2英寸的标准尺寸,标准配置2个溅射靶头,以满足客户镀不同膜的实验需求。
详情介绍:
TN-PSP180G-2TA 双靶等离子溅射镀膜仪(基础版)我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备,具有结构紧凑,简单易用,集成度高,设计感强的优势。等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸,标准配置2个溅射靶头,以满足客户镀不同膜的实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源,可用于金属溅射镀膜,尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。
产品名称 |
双靶等离子溅射镀膜仪-基础版 |
产品型号 |
TN-PSP180G-2TA |
主要特点 |
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技术参数 |
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产品规格 |
尺寸:500mm ×320mm × 470mm;重量:30kg;供电电压:AC220V,50Hz;功率1500W |
1.镀膜仪配有通气接口,可通入保护性气体,若客户需要通入混合气体,联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。
2.本镀膜仪标配为双极旋片真空泵,其具有体积小,抽真空快,操作简单的优势,若客户有进一步提升真空度的需要,联系技术人员选配分子泵组组成高真空系统。