产品名称：双靶等离子溅射镀膜仪(标准版)

TN-PSP180G-2TA-RS 小型双靶等离子溅射镀膜仪（标准版-旋转样品台）是我公司自主研发的一款高性价比等离子溅射镀膜设备，具有结构紧凑，简单易用，集成度高，旋转样品台提高镀膜均匀性。等离子溅射靶为2英寸的标准尺寸，客户可以根据需要选择1~3个靶的不同配置，以满足镀单层膜或者多种材料多层膜的不同实验需求。仪器所配电源为150W直流高压电源，可用于金属溅射镀膜，尤其适合金银铜等贵金属的镀膜。

产品名称	小型双靶等离子溅射镀膜仪（标准版-旋转样品台）
产品型号	TN-PSP180G-2TA-RS
主要特点	自主研发、高性价比 具有结构紧凑，简单操作 旋转样品台，镀膜更均匀 150W直流高压电源，金属溅射镀膜
技术参数	1、旋转样品台：尺寸φ100mm；转速：1-20rpm可调 2、直流溅射头：数量2” ×2   3、真空腔体：尺寸：φ180mm × 210mm、材料高纯石英、全向透明、顶盖拆卸式 4、真空系统：双极旋片真空泵 ；抽气速率：旋片泵：1.1L/S；极限真空：≥0.1Pa     抽气/排气接口：KF16； 真空测量：电阻规； 5、溅射电源配置：直流电源 ×1；max输出功率:150W，溅射电压1200V，*大溅射电流50mA
产品规格	尺寸500mm × 320mm × 470mm；重量30kg ；供电电压：AC220V,50Hz；功率1500W

1. 镀膜仪配有通气接口，可通入保护性气体，若客户需通入混合气体，可联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。

2.本镀膜仪标配为双极旋片真空泵，其具有体积小，抽真空快，操作简单的优势，若客户有进一步提升真空度的需要，可以联系技术人员选配分子泵组组成高真空系统。

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