产品详情
  • 产品名称:等离子加强化学沉积PECVD镀膜仪

  • 产品型号:TN-PECVD-450
  • 产品厂商:泰诺
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简单介绍:
等离子加强化学沉积PECVD镀膜仪能够利用高能量等离子体促进反应过程,有效提升反应速度,降低反应温度,等离子加强化学沉积PECVD镀膜仪适用于制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件
详情介绍:
TN-PECVD-450化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,能够利用高能量等离子体促进反应过程,有效提升反应速度,降低反应温度。适用于在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂,适用于制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件,可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。

名称
PECVD镀膜仪
型号
TN-PECVD-450
特点
  • 能够利用高能量等离子体促进反应过程,有效提升反应速度,降低反应温度
  • 适用于在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积
  • 成膜质量好,针孔较少,不易龟裂,适用于制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件
技术参数
  • 真空腔体    前开门式,φ300mm X 300mm 不锈钢材质
  • 观察窗:φ100mm 带挡板
  • 真空泵组    前级泵:旋片泵 抽速1.1L/s,次级泵:涡轮分子泵 抽速600L/s
  • 极限真空度    10-6Pa,三十分钟内可达到 10-4Pa
  • 沉积真空    0.133~133Pa,可根据工艺调整
  • 射频电源    13.56MHz,500W,自动匹配
  • 流量控制    质量流量计,默认 Ar气 0~200sccm
规格
整机尺寸    1100mm x 800mm x1100mm