产品名称：高真空迷你cvd实验室设备

○ 产品介绍

该组CVD设备为小型化CVD系统，核心是一款迷你管式炉，采用电阻丝加热，设备*高温度可达1200℃。仪器还包含一台三路浮子流量计，一台分子泵组，分别构成了CVD的进气和出气部分。炉管右侧有数显真空计，用以控制炉管内部的真空度和气氛环境。系统采用PID智能控温，控温精度能达到±1℃。
管式炉在操作上采用温控表操作，可预设控温曲线，一键启停，便于使用，能够简化实验操作进而节约试验时间。高真空分子泵组可以有效提高本低真空度，提高反应产物的质量。

○ 技术参数    

1200℃迷你管式炉参数 

供电电压	AC220V,50Hz
*大功率	2KW
加热温区	单温区200mm 恒温区长 100mm
加热元件	耐热合金丝
热电偶	K型
工作温度	≤1150℃
升温速率	建议≤10℃
控温	方式AI-PID 30段工艺曲线，带有过热和断偶保护，精度+-1℃
炉管	高纯石英，φ50mm O.D x 450mm L
真空系统	机械泵  抽速1.1L/s ，极限真空 5Pa

三路质量流量计参数

阀门类型	不锈钢针阀
气路数量	三路
承压范围	0.05~0.3MPa
量程	160SCCM（Air）
混气罐容积	750mL
气路材料	304不锈钢
管道接口	6.35mm卡套接头

分子泵组参数

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